共 50 条
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基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010701619.0
申请日：
2020-07-20
公开(公告)号：
CN112289703A
公开(公告)日：
2021-01-29
发明(设计)人：
中野央二郎
申请人：
申请人地址：
日本国东京都大田区羽田旭町11番1号
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
H01L21687
H01L2102
H01L21304
B24B722
B24B2700
B24B3710
B24B3734
代理机构：
上海华诚知识产权代理有限公司 31300
代理人：
肖华
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-01-29 | 公开 | 公开 |
| 2022-02-18 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200720 |