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粒子线照射系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201310306624.1
申请日
:
2013-07-19
公开(公告)号
:
CN103566488B
公开(公告)日
:
2014-02-12
发明(设计)人
:
西内秀晶
梅泽真澄
野村拓也
远竹聪
飞永晃司
今川知久
吉浦诚司
武田萌美
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
A61N510
IPC分类号
:
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
许静;郭凤麟
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-02-12
公开
公开
2014-03-12
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101578341222 IPC(主分类):A61N 5/10 专利申请号:2013103066241 申请日:20130719
2017-04-12
授权
授权
共 50 条
[1]
粒子线照射系统及其运转方法
[P].
西内秀晶
论文数:
0
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0
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0
西内秀晶
;
飞永晃司
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飞永晃司
;
森山国夫
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森山国夫
;
野村拓也
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野村拓也
.
中国专利
:CN104338243A
,2015-02-11
[2]
粒子线照射系统及粒子线照射设施
[P].
泷泽贤一
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泷泽贤一
;
西内秀晶
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西内秀晶
;
片寄雅
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片寄雅
.
中国专利
:CN114269429A
,2022-04-01
[3]
粒子线照射系统以及粒子线照射方法
[P].
江口美菜
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机构:
株式会社日立制作所
株式会社日立制作所
江口美菜
;
野村拓也
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机构:
株式会社日立制作所
株式会社日立制作所
野村拓也
.
日本专利
:CN118692718A
,2024-09-24
[4]
粒子线照射系统及粒子线照射设施
[P].
泷泽贤一
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
泷泽贤一
;
西内秀晶
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
西内秀晶
;
片寄雅
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
片寄雅
.
日本专利
:CN114269429B
,2025-12-09
[5]
粒子线照射系统
[P].
泷泽贤一
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泷泽贤一
;
浅野英仁
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浅野英仁
.
中国专利
:CN106139389B
,2016-11-23
[6]
粒子线照射系统及其运转方法
[P].
小笠原孝介
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小笠原孝介
;
野村拓也
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野村拓也
;
西内秀晶
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西内秀晶
.
中国专利
:CN104415466A
,2015-03-18
[7]
波束监视系统以及粒子线照射系统
[P].
堀能士
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堀能士
;
松下尊良
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松下尊良
;
森山国夫
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森山国夫
;
田所昌宏
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田所昌宏
.
中国专利
:CN104667436A
,2015-06-03
[8]
粒子线照射系统以及带电粒子束的修正方法
[P].
西内秀晶
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西内秀晶
;
藤高伸一郎
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0
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0
藤高伸一郎
.
中国专利
:CN103083828A
,2013-05-08
[9]
电荷粒子照射系统以及电荷粒子照射方法
[P].
藤井佑介
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藤井佑介
;
梅川彻
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梅川彻
;
梅泽真澄
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梅泽真澄
;
白土博树
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白土博树
;
梅垣菊男
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梅垣菊男
;
宫本直树
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宫本直树
;
松浦妙子
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松浦妙子
.
中国专利
:CN104053475A
,2014-09-17
[10]
照射计划装置以及带电粒子照射系统
[P].
稻庭拓
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稻庭拓
;
兼松伸幸
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兼松伸幸
;
古川卓司
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古川卓司
;
白井敏之
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白井敏之
;
野田耕司
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野田耕司
.
中国专利
:CN104411362B
,2015-03-11
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