电荷粒子照射系统以及电荷粒子照射方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280058710.9

申请日：

2012-11-14

公开(公告)号：

CN104053475A

公开(公告)日：

2014-09-17

发明(设计)人：

藤井佑介梅川彻梅泽真澄白土博树梅垣菊男宫本直树松浦妙子

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

A61N510

IPC分类号：

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

许静;李家浩

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-09-17	公开	公开
2017-03-29	授权	授权
2014-10-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101587561100 IPC(主分类):A61N 5/10 专利申请号:2012800587109 申请日:20121114
2016-06-29	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101734921566 IPC(主分类):A61N 5/10 专利申请号:2012800587109 登记生效日:20160608 变更事项:申请人变更前权利人:株式会社日立制作所变更后权利人:株式会社日立制作所变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都变更事项:申请人变更前权利人:国立大学法人北海道大学变更后权利人:无

共 50 条

[1]

电荷粒子束照射系统 [P].

伊藤友纪 ;

松田浩二 ;

品川亮介 ;

田所昌宏 ;

西村荒雄 .

中国专利 :CN104941076A ,2015-09-30

[2]

粒子线照射系统以及粒子线照射方法 [P].

江口美菜 ;

野村拓也 .

日本专利 :CN118692718A ,2024-09-24

[3]

粒子线照射系统及粒子线照射设施 [P].

泷泽贤一 ;

西内秀晶 ;

片寄雅 .

中国专利 :CN114269429A ,2022-04-01

[4]

粒子线照射系统及粒子线照射设施 [P].

泷泽贤一 ;

西内秀晶 ;

片寄雅 .

日本专利 :CN114269429B ,2025-12-09

[5]

照射计划装置以及带电粒子照射系统 [P].

稻庭拓 ;

兼松伸幸 ;

古川卓司 ;

白井敏之 ;

野田耕司 .

中国专利 :CN104411362B ,2015-03-11

[6]

粒子射线扫描照射系统及粒子射线扫描照射方法 [P].

蒲越虎 ;

池田昌广 ;

本田泰三 .

中国专利 :CN104203346A ,2014-12-10

[7]

粒子线照射系统 [P].

西内秀晶 ;

梅泽真澄 ;

野村拓也 ;

远竹聪 ;

飞永晃司 ;

今川知久 ;

吉浦诚司 ;

武田萌美 .

中国专利 :CN103566488B ,2014-02-12

[8]

粒子线照射系统 [P].

泷泽贤一 ;

浅野英仁 .

中国专利 :CN106139389B ,2016-11-23

[9]

粒子束照射系统、粒子束照射方法、照射计划程序、照射计划装置、电磁场生成装置以及照射装置 [P].

稻庭拓 ;

野田耕司 ;

岩田佳之 .

中国专利 :CN112334186A ,2021-02-05

[10]

粒子束照射系统及其控制方法以及粒子束照射系统的控制装置 [P].

高桥健太 ;

大仓晓 ;

伊藤友纪 ;

山田耕平 .

日本专利 :CN115135379B ,2025-07-18

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