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电荷粒子束照射系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201510085293.2
申请日
:
2015-02-16
公开(公告)号
:
CN104941076A
公开(公告)日
:
2015-09-30
发明(设计)人
:
伊藤友纪
松田浩二
品川亮介
田所昌宏
西村荒雄
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
A61N510
IPC分类号
:
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
曾贤伟;郝庆芬
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-11-04
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101631739127 IPC(主分类):A61N 5/10 专利申请号:2015100852932 申请日:20150216
2015-09-30
公开
公开
2018-03-30
授权
授权
共 50 条
[1]
粒子束照射装置
[P].
橘正则
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橘正则
;
井上淳一
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井上淳一
;
原章文
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原章文
.
中国专利
:CN103974745B
,2014-08-06
[2]
带电粒子束照射系统
[P].
原洋介
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机构:
碧点医疗股份有限公司
碧点医疗股份有限公司
原洋介
;
久保田佳树
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机构:
碧点医疗股份有限公司
碧点医疗股份有限公司
久保田佳树
;
蓑原伸一
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机构:
碧点医疗股份有限公司
碧点医疗股份有限公司
蓑原伸一
.
日本专利
:CN119947790A
,2025-05-06
[3]
粒子束治疗系统、粒子束照射切换方法以及存储介质
[P].
小野大辅
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小野大辅
;
伊藤友纪
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伊藤友纪
.
中国专利
:CN111617391B
,2020-09-04
[4]
粒子束照射装置
[P].
吴巍
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上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
吴巍
;
朱思华
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机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
朱思华
;
肖明明
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机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
肖明明
;
董瑞学
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机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
董瑞学
;
杜衡
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机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
杜衡
;
张满洲
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机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
张满洲
;
陈志凌
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机构:
上海艾普强粒子设备有限公司
上海艾普强粒子设备有限公司
陈志凌
.
中国专利
:CN121197699A
,2025-12-26
[5]
粒子束照射装置
[P].
麻生拓笃
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麻生拓笃
;
满欣
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满欣
;
佐藤诚
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佐藤诚
;
麻畑达也
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麻畑达也
.
中国专利
:CN112635278A
,2021-04-09
[6]
粒子束照射装置
[P].
麻生拓笃
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机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
麻生拓笃
;
满欣
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机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
满欣
;
佐藤诚
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机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
佐藤诚
;
麻畑达也
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机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
麻畑达也
.
日本专利
:CN112635278B
,2025-05-09
[7]
带电粒子束照射系统
[P].
矢岛晓
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矢岛晓
.
中国专利
:CN103957996A
,2014-07-30
[8]
带电粒子束照射系统
[P].
山口乔
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山口乔
;
水谷昌平
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水谷昌平
;
荒屋正幸
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荒屋正幸
;
须釜裕也
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须釜裕也
.
中国专利
:CN115006738A
,2022-09-06
[9]
粒子束剂量评价系统、计划装置及粒子束照射系统
[P].
藤井祐介
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藤井祐介
;
松浦妙子
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松浦妙子
;
松崎有华
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松崎有华
;
梅垣菊男
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梅垣菊男
;
白土博树
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白土博树
;
儿矢野英典
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儿矢野英典
;
山田贵启
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山田贵启
;
藤本林太郎
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藤本林太郎
.
中国专利
:CN108883303B
,2018-11-23
[10]
粒子束照射系统及其控制方法以及粒子束照射系统的控制装置
[P].
高桥健太
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机构:
株式会社日立制作所
株式会社日立制作所
高桥健太
;
大仓晓
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机构:
株式会社日立制作所
株式会社日立制作所
大仓晓
;
伊藤友纪
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机构:
株式会社日立制作所
株式会社日立制作所
伊藤友纪
;
山田耕平
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机构:
株式会社日立制作所
株式会社日立制作所
山田耕平
.
日本专利
:CN115135379B
,2025-07-18
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