吡咯素分子印迹材料及其制备方法和应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201611031937.0

申请日：

2016-11-22

公开(公告)号：

CN108084446B

公开(公告)日：

2018-05-29

发明(设计)人：

刘慧琳穆琳王静

申请人：

申请人地址：

100048 北京市海淀区阜成路11号

IPC主分类号：

C08G8300

IPC分类号：

C08J928 C08J926 G01N3002 B01J2022 B01J2026 B01J2030

代理机构：

北京润平知识产权代理有限公司 11283

代理人：

陈静;严政

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-22	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 83/00 申请日:20161122
2021-03-05	授权	授权
2018-05-29	公开	公开

共 50 条

[1]

半分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

严义勇 ;

马红圳 ;

朱海 ;

金虹 ;

王炳志 .

中国专利 :CN111151227A ,2020-05-15

[2]

树形分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

严义勇 ;

马红圳 ;

朱海 ;

金虹 ;

王炳志 .

中国专利 :CN111154035B ,2020-05-15

[3]

一种磁性分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

吴海峰 ;

许旭东 ;

马映红 ;

孙忠浩 ;

孙照翠 ;

马国需 ;

杨美华 .

中国专利 :CN120518821A ,2025-08-22

[4]

虚拟模板多环芳烃分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

代朝猛 ;

张峻博 ;

赵伊敏 ;

游学极 ;

付融冰 .

中国专利 :CN117003941B ,2025-09-19

[5]

一种光响应表面分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

金征宇 ;

王金鹏 ;

范浩然 ;

周星 ;

田耀旗 ;

焦爱权 ;

柏玉香 ;

王留留 ;

谢正军 ;

赵建伟 ;

徐学明 .

中国专利 :CN106866900B ,2017-06-20

[6]

一种维生素K1的分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

陈星云 ;

谢静 ;

王培勇 ;

廖彦剑 .

中国专利 :CN110711566B ,2020-01-21

[7]

一种比率型分子印迹荧光传感器及其制备方法和应用 [P].

杨钰昆 ;

王一丹 ;

张瑛 ;

白宝清 ;

张锦华 ;

薄涛 .

中国专利 :CN118566193A ,2024-08-30

[8]

表面分子印迹复合材料及其制备方法和应用 [P].

黄丹莲 ;

唐泽恒 ;

曾光明 ;

赖萃 ;

王荣忠 ;

王漫漫 ;

柳林杉 ;

覃杏梦 .

中国专利 :CN106496422B ,2017-03-15

[9]

烟酰胺虚拟模板表面分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

陈静钰 ;

王洪新 ;

吴世嘉 ;

魏新林 ;

黄鑫 ;

王力 .

中国专利 :CN110951105A ,2020-04-03

[10]

金属-有机框架材料及其制备方法和应用 [P].

林文鑫 ;

余世桨 ;

黄霞娟 ;

高林辉 ;

祝洪良 ;

陈建军 .

中国专利 :CN111635537A ,2020-09-08

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