烟酰胺虚拟模板表面分子印迹材料及其制备方法和应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911188009.9

申请日：

2019-11-28

公开(公告)号：

CN110951105A

公开(公告)日：

2020-04-03

发明(设计)人：

陈静钰王洪新吴世嘉魏新林黄鑫王力

申请人：

申请人地址：

214122 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号

IPC主分类号：

C08J926

IPC分类号：

C08F29200 C08F22006 C08F22214 B01J2026 B01J2030 B01D1522 B01D1510 C07D31162 C07C23124 C07C23706

代理机构：

南京经纬专利商标代理有限公司 32200

代理人：

余俊杰

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-08	授权	授权
2020-05-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08J 9/26 申请日:20191128
2020-04-03	公开	公开

共 50 条

[1]

一种光响应表面分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

金征宇 ;

王金鹏 ;

范浩然 ;

周星 ;

田耀旗 ;

焦爱权 ;

柏玉香 ;

王留留 ;

谢正军 ;

赵建伟 ;

徐学明 .

中国专利 :CN106866900B ,2017-06-20

[2]

虚拟模板多环芳烃分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

代朝猛 ;

张峻博 ;

赵伊敏 ;

游学极 ;

付融冰 .

中国专利 :CN117003941B ,2025-09-19

[3]

表面分子印迹复合材料及其制备方法和应用 [P].

黄丹莲 ;

唐泽恒 ;

曾光明 ;

赖萃 ;

王荣忠 ;

王漫漫 ;

柳林杉 ;

覃杏梦 .

中国专利 :CN106496422B ,2017-03-15

[4]

双模板表面分子印迹材料同时脱除水溶性茶提取物中吡虫啉和啶虫脒的方法 [P].

陈静钰 ;

王洪新 ;

吴世嘉 ;

魏新林 ;

黄鑫 ;

王力 .

中国专利 :CN110511423A ,2019-11-29

[5]

一种恩诺沙星限进表面分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

龚波林 ;

孙治安 .

中国专利 :CN112473633B ,2021-03-12

[6]

半分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

严义勇 ;

马红圳 ;

朱海 ;

金虹 ;

王炳志 .

中国专利 :CN111151227A ,2020-05-15

[7]

树形分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

严义勇 ;

马红圳 ;

朱海 ;

金虹 ;

王炳志 .

中国专利 :CN111154035B ,2020-05-15

[8]

克仑特罗表面分子印迹材料制备方法 [P].

杨挺 ;

吴银良 ;

陈国 ;

皇甫伟国 .

中国专利 :CN102489277B ,2012-06-13

[9]

基于RAFT策略蛋白质表面分子印迹材料及制备和应用 [P].

张丽华 ;

李沁然 ;

杨开广 ;

梁玉 ;

江波 ;

张玉奎 .

中国专利 :CN104231143A ,2014-12-24

[10]

吡咯素分子印迹材料及其制备方法和应用 [P].

刘慧琳 ;

穆琳 ;

王静 .

中国专利 :CN108084446B ,2018-05-29

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