基板处理装置、基板处理系统、及基板处理方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201680043042.0
申请日
2016-07-06
公开(公告)号
CN107851570A
公开(公告)日
2018-03-27
发明(设计)人
小畠严贵 八木圭太 盐川阳一
申请人
申请人地址
日本东京都大田区羽田旭町11番1号
IPC主分类号
H01L21304
IPC分类号
H01L21306
代理机构
上海华诚知识产权代理有限公司 31300
代理人
张丽颖
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P]. 
小畠严贵 ;
八木圭太 ;
渡边和英 ;
盐川阳一 ;
丸山彻 ;
高桥信行 .
中国专利 :CN106256016A ,2016-12-21
[2]
基板处理装置及基板处理系统 [P]. 
小畠严贵 ;
八木圭太 ;
渡边和英 ;
盐川阳一 ;
丸山彻 ;
高桥信行 .
中国专利 :CN111584355A ,2020-08-25
[3]
基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P]. 
岩田敬次 ;
森田明 ;
高桥朋宏 ;
枝光建治 ;
杉冈真治 .
日本专利 :CN112017997B ,2024-03-22
[4]
基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P]. 
岩田敬次 ;
森田明 ;
高桥朋宏 ;
枝光建治 ;
杉冈真治 .
中国专利 :CN112017997A ,2020-12-01
[5]
基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P]. 
村元僚 ;
高桥光和 .
中国专利 :CN110137107A ,2019-08-16
[6]
基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P]. 
村元僚 ;
高桥光和 .
日本专利 :CN110137107B ,2024-04-02
[7]
基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P]. 
桥本光治 ;
清水进二 ;
堀口博司 ;
山本真弘 .
日本专利 :CN112655073B ,2025-02-25
[8]
基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P]. 
桥本光治 ;
清水进二 ;
堀口博司 ;
山本真弘 .
日本专利 :CN119965129A ,2025-05-09
[9]
基板处理装置及基板处理系统 [P]. 
平井孝典 .
日本专利 :CN120094810A ,2025-06-06
[10]
基板处理系统及基板处理方法 [P]. 
山口都章 .
中国专利 :CN106102996B ,2016-11-09