基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010482294.1

申请日：

2020-05-29

公开(公告)号：

CN112017997A

公开(公告)日：

2020-12-01

发明(设计)人：

岩田敬次森田明高桥朋宏枝光建治杉冈真治

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L21311 H01L2711524 H01L2711551 H01L271157 H01L2711578

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

杨宏军

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-12-01	公开	公开
2020-12-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200529

共 50 条

[1]

基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P].

岩田敬次 ;

森田明 ;

高桥朋宏 ;

枝光建治 ;

杉冈真治 .

日本专利 :CN112017997B ,2024-03-22

[2]

基板处理装置、基板处理系统、及基板处理方法 [P].

小畠严贵 ;

八木圭太 ;

盐川阳一 .

中国专利 :CN107851570A ,2018-03-27

[3]

基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P].

小畠严贵 ;

八木圭太 ;

渡边和英 ;

盐川阳一 ;

丸山彻 ;

高桥信行 .

中国专利 :CN106256016A ,2016-12-21

[4]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

村元僚 ;

高桥光和 .

中国专利 :CN110137107A ,2019-08-16

[5]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

村元僚 ;

高桥光和 .

日本专利 :CN110137107B ,2024-04-02

[6]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

桥本光治 ;

清水进二 ;

堀口博司 ;

山本真弘 .

日本专利 :CN112655073B ,2025-02-25

[7]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

桥本光治 ;

清水进二 ;

堀口博司 ;

山本真弘 .

日本专利 :CN119965129A ,2025-05-09

[8]

基板处理装置及基板处理系统 [P].

平井孝典 .

日本专利 :CN120094810A ,2025-06-06

[9]

基板处理系统及基板处理方法 [P].

山口都章 .

中国专利 :CN106102996B ,2016-11-09

[10]

基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统 [P].

樋口鲇美 ;

犹原英司 ;

冲田有史 ;

岩畑翔太 ;

角间央章 ;

增井达哉 .

中国专利 :CN112640054A ,2021-04-09

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