基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980054879.9

申请日：

2019-07-04

公开(公告)号：

CN112640054A

公开(公告)日：

2021-04-09

发明(设计)人：

樋口鲇美犹原英司冲田有史岩畑翔太角间央章增井达哉

申请人：

申请人地址：

日本京都

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

B05D136 B05D140 B05D300 H01L21027 H01L21306

代理机构：

成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258

代理人：

魏彦

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-09	公开	公开
2021-04-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20190704

共 50 条

[1]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

村元僚 ;

高桥光和 .

中国专利 :CN110137107A ,2019-08-16

[2]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

村元僚 ;

高桥光和 .

日本专利 :CN110137107B ,2024-04-02

[3]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

桥本光治 ;

清水进二 ;

堀口博司 ;

山本真弘 .

日本专利 :CN112655073B ,2025-02-25

[4]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

桥本光治 ;

清水进二 ;

堀口博司 ;

山本真弘 .

日本专利 :CN119965129A ,2025-05-09

[5]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

桥本光治 ;

清水进二 ;

堀口博司 ;

山本真弘 .

中国专利 :CN112655073A ,2021-04-13

[6]

基板处理装置以及基板处理系统 [P].

樋口鲇美 ;

犹原英司 ;

冲田有史 ;

岩畑翔太 ;

角间央章 ;

增井达哉 .

日本专利 :CN119108315A ,2024-12-10

[7]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

井上正史 ;

田中孝佳 ;

岩田智巳 ;

谷口宽树 ;

新庄淳一 ;

高桥弘明 ;

樋口鲇美 ;

大迹明 ;

中野佑太 .

中国专利 :CN108257891B ,2018-07-06

[8]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

栗原弘邦 ;

水鸟量介 ;

后和昭典 ;

高木智哉 ;

本间真 .

中国专利 :CN105914165B ,2016-08-31

[9]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

林圣人 ;

野口耕平 ;

东广大 ;

绪方诚 .

日本专利 :CN111477564B ,2025-07-15

[10]

基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统 [P].

金田正利 ;

大石雄三 ;

吉田圭佑 .

中国专利 :CN105206526B ,2015-12-30

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