等离子处理装置以及等离子处理方法

被引：0

申请号：

CN202080020927.5

申请日：

2020-09-02

公开(公告)号：

CN114467169A

公开(公告)日：

2022-05-10

发明(设计)人：

德永贵之上村光弘森本未知数

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L213065 H01J3732 H05H146

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴秋明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-10	公开	公开
2022-05-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200902

共 50 条

[1]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

德永贵之 ;

上村光弘 ;

森本未知数 .

日本专利 :CN114467169B ,2025-07-25

[2]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

市川贵大 ;

弘中嘉之 ;

大越康雄 .

日本专利 :CN115004864B ,2025-10-14

[3]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

田村仁 ;

森裕晖 ;

礒本真维 .

日本专利 :CN119366267A ,2025-01-24

[4]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

江崎隆 ;

广田侯然 ;

池永和幸 ;

角屋诚浩 .

日本专利 :CN119895545A ,2025-04-25

[5]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

中谷信太郎 ;

堀川恭兵 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN112655069A ,2021-04-13

[6]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

市川贵大 ;

弘中嘉之 ;

大越康雄 .

中国专利 :CN115004864A ,2022-09-02

[7]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

弘中嘉之 .

中国专利 :CN110648889B ,2020-01-03

[8]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

桧森慎司 .

中国专利 :CN101990353A ,2011-03-23

[9]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

置田尚吾 ;

大西康博 .

中国专利 :CN102939648A ,2013-02-20

[10]

等离子处理方法以及等离子处理装置 [P].

田中庆一 .

中国专利 :CN110277296A ,2019-09-24

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