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等离子处理装置以及等离子处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202380012992.7
申请日：
2023-05-23
公开(公告)号：
CN119366267A
公开(公告)日：
2025-01-24
发明(设计)人：
田村仁
森裕晖
礒本真维
申请人：
株式会社日立高新技术
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H05H1/46
IPC分类号：
H01L21/3065
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
吴秋明
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-02-18 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/46申请日:20230523 |
| 2025-01-24 | 公开 | 公开 |