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等离子处理装置以及等离子处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202180004956.7
申请日：
2021-03-24
公开(公告)号：
CN115398602B
公开(公告)日：
2025-02-21
发明(设计)人：
中谷信太郎
一野贵雅
近藤勇树
申请人：
株式会社日立高新技术
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21/3065
IPC分类号：
H01L21/683
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
吴秋明
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-02-21 | 授权 | 授权 |