保护膜形成用溅射靶及层叠配线膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310545415.2

申请日：

2013-11-06

公开(公告)号：

CN103993272A

公开(公告)日：

2014-08-20

发明(设计)人：

森晓野中荘平

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C23C1414 C22C901

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

康泉;王珍仙

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-08-20	公开	公开
2017-09-29	授权	授权
2015-09-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101625655693 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2013105454152 申请日:20131106

共 50 条

[1]

保护膜形成用溅射靶及层叠配线膜 [P].

森晓 ;

小见山昌三 .

中国专利 :CN105473760A ,2016-04-06

[2]

保护膜形成用溅射靶及层叠配线膜 [P].

森晓 ;

野中庄平 .

中国专利 :CN104109837B ,2014-10-22

[3]

溅射靶、光学功能膜及层叠配线膜 [P].

斋藤淳 ;

张守斌 ;

盐野一郎 .

中国专利 :CN106062241B ,2016-10-26

[4]

溅射靶及层叠膜 [P].

森晓 ;

小见山昌三 ;

野中庄平 .

中国专利 :CN105525262B ,2016-04-27

[5]

保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片 [P].

佐伯尚哉 ;

山本大辅 ;

高野健 .

中国专利 :CN104937712B ,2015-09-23

[6]

保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片 [P].

米山裕之 ;

稻男洋一 ;

小桥力也 .

日本专利 :CN119141993A ,2024-12-17

[7]

保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片 [P].

薄刃美玲 ;

米山裕之 .

中国专利 :CN112625276A ,2021-04-09

[8]

保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片 [P].

小桥力也 ;

稻男洋一 .

中国专利 :CN108604542A ,2018-09-28

[9]

保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片 [P].

小升雄一朗 ;

米山裕之 .

日本专利 :CN112625275B ,2024-08-23

[10]

保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片 [P].

坂本美纱季 ;

米山裕之 .

日本专利 :CN112625273B ,2024-08-23

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