溅射靶及层叠膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510655265.X

申请日：

2015-10-12

公开(公告)号：

CN105525262B

公开(公告)日：

2016-04-27

发明(设计)人：

森晓小见山昌三野中庄平

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C22C904

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

齐葵;周艳玲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件序号:101720382074 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:201510655265X 申请日:20151012 号牌文件类型代码:1604
2020-01-31	授权	授权
2016-04-27	公开	公开

共 50 条

[1]

层叠膜及Ag合金溅射靶 [P].

岁森悠人 ;

野中庄平 .

中国专利 :CN112119179A ,2020-12-22

[2]

溅射靶、光学功能膜及层叠配线膜 [P].

斋藤淳 ;

张守斌 ;

盐野一郎 .

中国专利 :CN106062241B ,2016-10-26

[3]

保护膜形成用溅射靶及层叠配线膜 [P].

森晓 ;

小见山昌三 .

中国专利 :CN105473760A ,2016-04-06

[4]

保护膜形成用溅射靶及层叠配线膜 [P].

森晓 ;

野中荘平 .

中国专利 :CN103993272A ,2014-08-20

[5]

保护膜形成用溅射靶及层叠配线膜 [P].

森晓 ;

野中庄平 .

中国专利 :CN104109837B ,2014-10-22

[6]

溅射靶部件、溅射膜及其制造方法，溅射靶、膜体 [P].

远藤瑶辅 ;

山本浩由 ;

桃井元 ;

角田浩二 ;

奈良淳史 .

中国专利 :CN111364011B ,2020-07-03

[7]

溅射靶、层叠膜的制造方法、层叠膜以及磁记录介质 [P].

清水正义 ;

增田爱美 ;

岩渊靖幸 ;

本田和也 .

日本专利 :CN119110856A ,2024-12-10

[8]

光学功能膜、溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

梅本启太 ;

白井孝典 ;

杉内幸也 ;

大友健志 .

中国专利 :CN112424390A ,2021-02-26

[9]

溅射靶制造方法及溅射靶 [P].

斋藤淳 .

中国专利 :CN102959122A ,2013-03-06

[10]

溅射靶部件、溅射靶组件、以及成膜方法 [P].

小庄孝志 ;

岩渊靖幸 .

日本专利 :CN118077006A ,2024-05-24

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