相位差薄膜、相位差薄膜的制造方法、层叠相位差薄膜的制造方法、光学薄膜和图像显示装置

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专利类型
发明
申请号
CN200480040581.6
申请日
2004-12-17
公开(公告)号
CN1906508A
公开(公告)日
2007-01-31
发明(设计)人
首藤俊介
申请人
申请人地址
日本大阪府
IPC主分类号
G02B530
IPC分类号
G02F113363
代理机构
永新专利商标代理有限公司
代理人
陈建全
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
层叠相位差薄膜 [P]. 
浴中达矢 ;
新田英昭 ;
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[2]
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[3]
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[4]
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[5]
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[10]
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