相位差薄膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01801769.X

申请日：

2001-04-24

公开(公告)号：

CN1201171C

公开(公告)日：

2002-12-04

发明(设计)人：

内山昭彦辻仓正一串田尚

申请人：

申请人地址：

日本大阪府大阪市

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

C08J518 C08L6900 C08L101:00 69:00

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

王景朝;郭广迅

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2002-12-04	公开	公开
2021-04-09	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 5/30 申请日:20010424 授权公告日:20050511 终止日期:20200424
2005-05-11	授权	授权
2003-02-19	实质审查的生效	实质审查的生效
2002-11-13	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

相位差薄膜、相位差薄膜的制造方法、层叠相位差薄膜的制造方法、光学薄膜和图像显示装置 [P].

首藤俊介 .

中国专利 :CN1906508A ,2007-01-31

[2]

相位差薄膜及其制造方法 [P].

首藤俊介 ;

小林弘明 ;

松永卓也 .

中国专利 :CN1748159A ,2006-03-15

[3]

相位差薄膜 [P].

平池宏至 ;

泽田贵彦 ;

八木一成 ;

樋口勋夫 ;

丰岛克典 ;

森田健晴 ;

野里省二 ;

高榎义宏 ;

中村岳博 ;

维尔弗里德·哈特克 ;

马蒂亚斯·布鲁赫 ;

安妮-迈克·绍尔维恩诺尔德 ;

乌多·曼弗雷德·施特林 ;

金井裕之 ;

芹泽肇 .

中国专利 :CN100489576C ,2007-10-31

[4]

相位差膜及相位差膜的制造方法 [P].

浅田毅 ;

摺出寺浩成 ;

藤井健作 ;

安祐辅 ;

西冈宽哉 .

中国专利 :CN111868583B ,2020-10-30

[5]

相位差膜和相位差膜的制造方法 [P].

浅田毅 ;

摺出寺浩成 ;

藤井健作 ;

安祐辅 ;

西冈宽哉 .

中国专利 :CN111886524B ,2020-11-03

[6]

层叠相位差薄膜 [P].

浴中达矢 ;

新田英昭 ;

畠中邦夫 ;

长谷川欣治 .

中国专利 :CN101251614A ,2008-08-27

[7]

相位差薄膜用卷筒薄膜、相位差薄膜及液晶显示装置 [P].

日野享子 ;

铃木俊彦 ;

高畑弘明 ;

樱井孝至 .

中国专利 :CN101646719B ,2010-02-10

[8]

相位差膜的制造方法 [P].

柳沼宽教 ;

石井孝证 ;

铃木广太 .

中国专利 :CN113492519A ,2021-10-12

[9]

相位差膜的制造方法 [P].

椿幸树 ;

阿波茂树 ;

小林武史 ;

松山刚知 ;

川月喜弘 .

中国专利 :CN103443668B ,2013-12-11

[10]

相位差板的制造方法 [P].

摺出寺浩成 .

中国专利 :CN104204874B ,2014-12-10

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