静电去除基材表面异物的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980064790.0

申请日：

2019-09-17

公开(公告)号：

CN112789718A

公开(公告)日：

2021-05-11

发明(设计)人：

安东尼奥·罗通达龙德里克·巴塞特特拉斯·赫德伊赫桑·西姆斯

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21683

IPC分类号：

H01L2167 H02N1300 B23Q315 H01L2102

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

陈炜;李德山

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-11	公开	公开
2021-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/683 申请日:20190917

共 50 条

[1]

静电去除基材表面异物的装置和方法 [P].

安东尼奥·罗通达龙 ;

德里克·巴塞特 ;

特拉斯·赫德 ;

伊赫桑·西姆斯 .

日本专利 :CN112789718B ,2024-12-03

[2]

去除金属基材表面氧化层的方法以及装置 [P].

徐赛 .

中国专利 :CN118692898A ,2024-09-24

[3]

半导体基材表面去除氟杂质的方法 [P].

邹兴富 .

中国专利 :CN113284788A ,2021-08-20

[4]

铝类基材的表面处理方法和经表面处理的基材 [P].

印部俊雄 ;

松井德纯 ;

安田光宏 ;

山添胜芳 .

中国专利 :CN1572913A ,2005-02-02

[5]

去除透明基材表面油墨的方法、系统、设备和存储介质 [P].

朱建 ;

袁剑 ;

黎锦宁 ;

李善基 .

中国专利 :CN116037572B ,2024-04-09

[6]

玻璃基材表面清洁设备和玻璃基材表面清洁方法 [P].

大石道广 .

中国专利 :CN103402657A ,2013-11-20

[7]

用于基材表面清洁的方法和设备 [P].

郭镇坤 ;

刘建麟 ;

潘国松 .

中国专利 :CN107206438A ,2017-09-26

[8]

用于基材表面清洁的方法和设备 [P].

郭镇坤 ;

刘建麟 ;

潘国松 .

中国专利 :CN114798653A ,2022-07-29

[9]

一种从基材表面去除残留物的方法 [P].

E·阿尔塔米拉诺桑切斯 ;

Q·T·乐 .

:CN120089600A ,2025-06-03

[10]

表面处理的基材及用于其的基材表面处理方法 [P].

郑铉珠 ;

金庆保 ;

朴河善 ;

金武镇 ;

金庆式 ;

李睍英 .

中国专利 :CN105874100B ,2016-08-17

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