一种用于痕量杂质分析的样品前处理装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202122551828.4

申请日：

2021-10-22

公开(公告)号：

CN216051512U

公开(公告)日：

2022-03-15

发明(设计)人：

黄二阳周延江赵娟龙李虎张国瑞

申请人：

申请人地址：

831100 新疆维吾尔自治区昌吉回族自治州准东经济技术开发区红沙泉北工业区横四路东段

IPC主分类号：

G01N27626

IPC分类号：

G01N2163

代理机构：

江苏圣典律师事务所 32237

代理人：

徐芝强;肖明芳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-15	授权	授权

共 50 条

[1]

一种用于多晶硅中痕量杂质分析的前处理装置 [P].

祝永强 ;

王生红 ;

征取 ;

刘元香 ;

蔡延国 ;

宗冰 ;

王体虎 .

中国专利 :CN105158322A ,2015-12-16

[2]

一种碳分析样品前处理装置 [P].

刘一兰 .

中国专利 :CN209198166U ,2019-08-02

[3]

一种用于检测三氯氢硅中痕量杂质的前处理装置 [P].

田润朝 ;

征取 ;

拜黎洁 ;

王彩娟 ;

张海燕 ;

陈英 ;

魏东亮 .

中国专利 :CN208076248U ,2018-11-09

[4]

一种用于分析三氯氢硅中痕量杂质的前处理装置 [P].

张福海 ;

蔡延国 ;

王生红 ;

刘元香 ;

征取 ;

季静佳 .

中国专利 :CN204214707U ,2015-03-18

[5]

量化分析痕量氨基甲酸乙酯的样品前处理装置 [P].

廖惠云 ;

庄亚东 ;

韩开冬 ;

王晨辉 ;

熊晓敏 ;

石怀 ;

曹毅 ;

尤晓娟 ;

张媛 ;

王珂清 ;

李朝建 ;

沈晓晨 .

中国专利 :CN205449913U ,2016-08-10

[6]

一种杂质分析放射性样品前处理装置及方法 [P].

吴侗 ;

武亚丽 ;

景振华 ;

张庆桂 ;

张永红 ;

段长平 ;

邹会军 ;

那娟娟 ;

秦桂生 .

中国专利 :CN119643269A ,2025-03-18

[7]

一种分析用样品前处理装置 [P].

徐蕾 ;

崔凤娟 ;

高立娣 ;

陈林 ;

刘树仁 .

中国专利 :CN206074331U ,2017-04-05

[8]

一种样品前处理装置 [P].

路文初 .

中国专利 :CN210269665U ,2020-04-07

[9]

一种样品前处理装置 [P].

马丽萍 ;

李荣生 ;

吴永凯 .

中国专利 :CN213517175U ,2021-06-22

[10]

一种样品前处理装置 [P].

彭戈 ;

柴敏平 ;

况文龙 ;

王振方 ;

黄益 ;

邓祥荣 ;

秦子越 ;

熊丽姬 .

中国专利 :CN222028036U ,2024-11-19

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