一种用于检测三氯氢硅中痕量杂质的前处理装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201820272109.4

申请日：

2018-02-26

公开(公告)号：

CN208076248U

公开(公告)日：

2018-11-09

发明(设计)人：

田润朝征取拜黎洁王彩娟张海燕陈英魏东亮

申请人：

申请人地址：

810007 青海省西宁市经济技术开发区金硅路1号

IPC主分类号：

G01N128

IPC分类号：

G01N144

代理机构：

北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371

代理人：

孙辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-11-09	授权	授权
2020-06-30	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G01N 1/28 变更事项:专利权人变更前:亚洲硅业（青海）有限公司变更后:亚洲硅业（青海）股份有限公司变更事项:地址变更前:810007 青海省西宁市经济技术开发区金硅路1号变更后:810007 青海省西宁市城东经济技术开发区金硅路1号

共 50 条

[1]

一种用于分析三氯氢硅中痕量杂质的前处理装置 [P].

张福海 ;

蔡延国 ;

王生红 ;

刘元香 ;

征取 ;

季静佳 .

中国专利 :CN204214707U ,2015-03-18

[2]

去除三氯氢硅中杂质的装置 [P].

牛刚 ;

王西玉 ;

朱文刚 ;

罗佳林 ;

陈文吉 ;

刘飞 .

中国专利 :CN222624499U ,2025-03-18

[3]

一种用于三氯硅烷中金属杂质离子检测的前处理装置 [P].

陈文吉 ;

李春梅 ;

裴雅晨 ;

李豪杰 ;

董红军 ;

高娟 ;

尚鹏翔 ;

万伟 .

中国专利 :CN222800442U ,2025-04-25

[4]

一种用于多晶硅中痕量杂质分析的前处理装置 [P].

祝永强 ;

王生红 ;

征取 ;

刘元香 ;

蔡延国 ;

宗冰 ;

王体虎 .

中国专利 :CN105158322A ,2015-12-16

[5]

一种用于痕量杂质分析的样品前处理装置 [P].

黄二阳 ;

周延江 ;

赵娟龙 ;

李虎 ;

张国瑞 .

中国专利 :CN216051512U ,2022-03-15

[6]

检测高纯三氯氢硅中痕量杂质的系统和方法 [P].

张天雨 ;

蒋文武 ;

闫家强 ;

吴鹏 .

中国专利 :CN114264717A ,2022-04-01

[7]

去除三氯氢硅中杂质的装置和方法 [P].

牛刚 ;

王西玉 ;

朱文刚 ;

罗佳林 ;

陈文吉 ;

刘飞 .

中国专利 :CN118403584A ,2024-07-30

[8]

去除三氯氢硅中杂质的装置和方法 [P].

牛刚 ;

王西玉 ;

朱文刚 ;

罗佳林 ;

陈文吉 ;

刘飞 .

中国专利 :CN118403584B ,2025-10-03

[9]

一种用于高纯二氯氢硅中痕量杂质检测的分析装置 [P].

倪珊珊 ;

陈润泽 ;

李欣 ;

李帅楠 ;

井栋宇 ;

吕舜 ;

解晓虎 ;

吕浩然 .

中国专利 :CN220795140U ,2024-04-16

[10]

一种三氯氢硅杂质去除装置 [P].

韩秀娟 ;

李福中 ;

孙彬 ;

昝玉堂 .

中国专利 :CN221933344U ,2024-11-01

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