一种用于高纯二氯氢硅中痕量杂质检测的分析装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202322416113.7

申请日：

2023-09-06

公开(公告)号：

CN220795140U

公开(公告)日：

2024-04-16

发明(设计)人：

倪珊珊陈润泽李欣李帅楠井栋宇吕舜解晓虎吕浩然

申请人：

中船（邯郸）派瑞特种气体股份有限公司

申请人地址：

057550 河北省邯郸市肥乡区化工工业聚集区纬五路1号（经营场所:纬五路1号、世纪大街6号）

IPC主分类号：

G01N30/20

IPC分类号：

G01N30/68

代理机构：

石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 13100

代理人：

齐兰君

法律状态：

授权

国省代码：

河北省邯郸市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-04-16	授权	授权

共 50 条

[1]

一种用于电子气二氟甲烷中杂质检测的分析装置 [P].

王法迎 ;

黄小强 ;

杨康 .

中国专利 :CN217180751U ,2022-08-12

[2]

一种用于高纯氟气中杂质的分析装置 [P].

李帅楠 ;

郑秋艳 ;

倪珊珊 ;

殷越玲 ;

苏子杰 ;

魏晓娟 ;

滕莹 ;

袁攀攀 .

中国专利 :CN216285088U ,2022-04-12

[3]

一种用于电子气二氟甲烷中杂质检测的分析装置及方法 [P].

王法迎 ;

黄小强 ;

杨康 .

中国专利 :CN114563521A ,2022-05-31

[4]

一种用于检测三氯氢硅中痕量杂质的前处理装置 [P].

田润朝 ;

征取 ;

拜黎洁 ;

王彩娟 ;

张海燕 ;

陈英 ;

魏东亮 .

中国专利 :CN208076248U ,2018-11-09

[5]

用于分析多种高纯气体中微量或痕量杂质的阀路系统 [P].

李春 ;

陈刚 ;

彭树红 ;

黄涛宏 .

中国专利 :CN223217451U ,2025-08-12

[6]

一种高纯磷烷中痕量硫化氢的分析装置 [P].

何波 ;

刘少杰 ;

唐中伟 ;

杨康 .

中国专利 :CN217060101U ,2022-07-26

[7]

检测高纯三氯氢硅中痕量杂质的系统和方法 [P].

张天雨 ;

蒋文武 ;

闫家强 ;

吴鹏 .

中国专利 :CN114264717A ,2022-04-01

[8]

一种用于分析三氯氢硅中痕量杂质的前处理装置 [P].

张福海 ;

蔡延国 ;

王生红 ;

刘元香 ;

征取 ;

季静佳 .

中国专利 :CN204214707U ,2015-03-18

[9]

一种在线检测超纯氧中杂质的分析装置 [P].

杨康 ;

王法迎 ;

唐中伟 ;

黄小强 .

中国专利 :CN217084839U ,2022-07-29

[10]

一种高纯磷烷中痕量硫化氢的分析装置及其分析方法 [P].

何波 ;

刘少杰 ;

唐中伟 ;

杨康 .

中国专利 :CN115032322A ,2022-09-09

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