一种磁控溅射铜靶材的制备方法以及靶材的应用

被引：0

申请号：

CN202211044447.X

申请日：

2022-08-30

公开(公告)号：

CN115533447A

公开(公告)日：

2022-12-30

发明(设计)人：

沈月陈天天闻明王传军许彦亭周利民李思勰巢云秀李治东

申请人：

申请人地址：

650000 云南省昆明市市辖区高新技术开发区科技路988号（昆明贵金属研究所)

IPC主分类号：

B23P1500

IPC分类号：

B21B138 C23C1435 B22D1104 C22F108 C22F102

代理机构：

昆明今威专利商标代理有限公司 53115

代理人：

欧阳桥

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-30	公开	公开
2023-01-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B23P 15/00 申请日:20220830

共 50 条

[1]

一种磁控溅射铜靶材的制备方法以及靶材的应用 [P].

沈月 ;

陈天天 ;

闻明 ;

王传军 ;

许彦亭 ;

周利民 ;

李思勰 ;

巢云秀 ;

李治东 .

中国专利 :CN115533447B ,2024-11-22

[2]

一种高纯铜靶材的制备方法及靶材的用途 [P].

沈月 ;

普志辉 ;

闻明 ;

王传军 ;

陈天天 ;

巢云秀 ;

周利民 ;

许彦亭 ;

宋修庆 .

中国专利 :CN115415351B ,2024-07-02

[3]

一种高纯铜靶材的制备方法及靶材的用途 [P].

沈月 ;

普志辉 ;

闻明 ;

王传军 ;

陈天天 ;

巢云秀 ;

周利民 ;

许彦亭 ;

宋修庆 .

中国专利 :CN115415351A ,2022-12-02

[4]

溅射用铜靶材以及溅射用铜靶材的制造方法 [P].

辰巳宪之 ;

小林隆一 ;

上田孝史郎 .

中国专利 :CN103572227A ,2014-02-12

[5]

一种磁控溅射用镍靶材的制备方法 [P].

李思勰 ;

闻明 ;

普志辉 ;

杨海 ;

何云帅 ;

杨建明 ;

李治东 ;

许永刚 ;

黄通 .

中国专利 :CN117568765A ,2024-02-20

[6]

一种高纯铜靶材的制备方法 [P].

高岩 ;

李勇军 ;

何金江 ;

曾浩 ;

王欣平 ;

王兴权 .

中国专利 :CN104694888A ,2015-06-10

[7]

高纯铜靶材的制备方法 [P].

姚力军 ;

相原俊夫 ;

大岩一彦 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

高建 .

中国专利 :CN103510055A ,2014-01-15

[8]

一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法 [P].

张灵杰 .

中国专利 :CN113463042A ,2021-10-01

[9]

一种铜靶材及其制备方法和应用 [P].

姚力军 ;

周友平 ;

余婷 ;

陈勇军 .

中国专利 :CN118547252A ,2024-08-27

[10]

一种铜银合金靶材的制备方法 [P].

高岩 ;

贺昕 ;

庞欣 ;

熊晓东 ;

曾浩 ;

李勇军 ;

杨永刚 ;

陈明 ;

李建强 ;

冯昭伟 ;

刘晓 .

中国专利 :CN107937878A ,2018-04-20

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