电化学抛光机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN02263565.3

申请日：

2002-08-05

公开(公告)号：

CN2555129Y

公开(公告)日：

2003-06-11

发明(设计)人：

季仁良

申请人：

申请人地址：

214177江苏省无锡市惠山区长安镇陆古庄27号

IPC主分类号：

B24B3900

IPC分类号：

代理机构：

无锡市大为专利事务所

代理人：

曹祖良

法律状态：

专利权的终止未缴年费专利权终止

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-09-26	专利权的终止未缴年费专利权终止	专利权的终止未缴年费专利权终止
2003-06-11	授权	授权

共 50 条

[1]

电化学抛光机 [P].

徐宇博 ;

陈倩 ;

魏新 ;

张杰 ;

张睿 ;

胡安存 .

中国专利 :CN220335357U ,2024-01-12

[2]

电化学抛光机床 [P].

田佳聪 .

中国专利 :CN106862682A ,2017-06-20

[3]

电化学抛光装置 [P].

庄维伟 ;

高永超 ;

程好 ;

杨淑平 ;

蔡渊 ;

贺昱旻 .

中国专利 :CN203174217U ,2013-09-04

[4]

电化学抛光装置 [P].

向城 ;

刁宇新 ;

叶知春 .

中国专利 :CN217839194U ,2022-11-18

[5]

电化学抛光装置 [P].

于丽 .

中国专利 :CN216738622U ,2022-06-14

[6]

一种多工位电化学抛光机 [P].

杨帆 ;

顾兴中 .

中国专利 :CN222205552U ,2024-12-20

[7]

支架电化学抛光装置 [P].

蔡蒙 ;

梅森 ;

沈丹鸿 .

中国专利 :CN223226221U ,2025-08-15

[8]

新型电化学抛光装置 [P].

贾照伟 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN104894634A ,2015-09-09

[9]

一种逐步电化学抛光装置 [P].

王平 .

中国专利 :CN202688499U ,2013-01-23

[10]

电化学抛光设备 [P].

杨宏超 ;

金一诺 ;

张怀东 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN105316755A ,2016-02-10

← 1 2 3 4 5 →