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一种外延反应腔和化学气相外延设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610357320.1
申请日
:
2016-05-26
公开(公告)号
:
CN107435165A
公开(公告)日
:
2017-12-05
发明(设计)人
:
孙伟
申请人
:
申请人地址
:
100176 北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号
:
C30B2508
IPC分类号
:
C23C1644
代理机构
:
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
:
彭瑞欣;罗瑞芝
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-12-05
公开
公开
2017-12-29
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 25/08 申请日:20160526
2022-07-15
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B 25/08 申请公布日:20171205
共 50 条
[1]
气相外延装置和气相外延方法
[P].
左然
论文数:
0
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0
左然
;
徐永亮
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徐永亮
;
刘自强
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0
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0
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刘自强
.
中国专利
:CN102181923A
,2011-09-14
[2]
气相外延设备
[P].
庄文荣
论文数:
0
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
庄文荣
;
卢敬权
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
卢敬权
;
王健辉
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0
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王健辉
;
钟增梁
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0
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
钟增梁
.
中国专利
:CN223017035U
,2025-06-24
[3]
一种防止工艺气体回流的气相外延反应腔结构
[P].
张海涛
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0
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0
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机构:
无锡吴越半导体有限公司
无锡吴越半导体有限公司
张海涛
;
山本晓
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机构:
无锡吴越半导体有限公司
无锡吴越半导体有限公司
山本晓
;
许彬
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机构:
无锡吴越半导体有限公司
无锡吴越半导体有限公司
许彬
.
中国专利
:CN113445129B
,2024-10-01
[4]
外延片承载装置和化学气相沉积设备
[P].
程凯
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程凯
;
刘凯
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刘凯
.
中国专利
:CN215757732U
,2022-02-08
[5]
一种用于气相外延反应腔结构的自公转基座
[P].
张海涛
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机构:
无锡吴越半导体有限公司
无锡吴越半导体有限公司
张海涛
;
山本晓
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机构:
无锡吴越半导体有限公司
无锡吴越半导体有限公司
山本晓
;
许彬
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机构:
无锡吴越半导体有限公司
无锡吴越半导体有限公司
许彬
.
中国专利
:CN113481594B
,2025-04-11
[6]
一种用于气相外延反应腔结构的自公转基座
[P].
张海涛
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张海涛
;
山本晓
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山本晓
;
许彬
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许彬
.
中国专利
:CN113481594A
,2021-10-08
[7]
气相外延生长设备
[P].
刘向平
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刘向平
;
黄业
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黄业
;
王建辉
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王建辉
;
梁旭
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梁旭
;
王帅
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0
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0
王帅
.
中国专利
:CN216864378U
,2022-07-01
[8]
一种防止工艺气体回流的气相外延反应腔结构
[P].
张海涛
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张海涛
;
山本晓
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山本晓
;
许彬
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0
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0
许彬
.
中国专利
:CN113445129A
,2021-09-28
[9]
一种防止工艺气体回流的气相外延反应腔结构
[P].
张海涛
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张海涛
;
山本晓
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山本晓
;
许彬
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0
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0
许彬
.
中国专利
:CN216141656U
,2022-03-29
[10]
一种用于气相外延反应腔结构的自公转基座
[P].
张海涛
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0
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张海涛
;
山本晓
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山本晓
;
许彬
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0
许彬
.
中国专利
:CN216074093U
,2022-03-18
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