荧光X射线分析装置

被引:0
申请号
CN202080082985.0
申请日
2020-12-01
公开(公告)号
CN114746744A
公开(公告)日
2022-07-12
发明(设计)人
二位肇
申请人
申请人地址
日本京都府
IPC主分类号
G01N23223
IPC分类号
代理机构
北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290
代理人
李成必;李雪春
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
荧光X射线分析装置以及荧光X射线分析方法 [P]. 
斋藤佑多 .
中国专利 :CN112105919A ,2020-12-18
[2]
荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P]. 
高原稔幸 .
中国专利 :CN105628724A ,2016-06-01
[3]
荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P]. 
深井隆行 ;
的场吉毅 ;
大柿真毅 .
中国专利 :CN109459458A ,2019-03-12
[4]
荧光X射线分析装置 [P]. 
多田正市 ;
谷向贤 .
中国专利 :CN103364424A ,2013-10-23
[5]
荧光X射线分析装置 [P]. 
古川博朗 ;
小林宽治 .
中国专利 :CN105247354A ,2016-01-13
[6]
荧光X射线分析装置 [P]. 
森久祐司 .
日本专利 :CN119023721A ,2024-11-26
[7]
荧光X射线分析装置 [P]. 
河野久征 ;
庄司孝 ;
堂井真 .
中国专利 :CN1739023B ,2006-02-22
[8]
荧光X射线分析装置 [P]. 
迫幸雄 .
中国专利 :CN110088603A ,2019-08-02
[9]
荧光X射线分析装置 [P]. 
的场吉毅 ;
深井隆行 ;
高桥正则 ;
一宫丰 .
中国专利 :CN101052870A ,2007-10-10
[10]
荧光X射线分析装置 [P]. 
河野久征 ;
庄司孝 ;
堂井真 .
中国专利 :CN101520423B ,2009-09-02