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荧光X射线分析装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201310005481.0
申请日
:
2013-01-08
公开(公告)号
:
CN103364424A
公开(公告)日
:
2013-10-23
发明(设计)人
:
多田正市
谷向贤
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
G01N23223
IPC分类号
:
代理机构
:
北京三幸商标专利事务所 11216
代理人
:
刘激扬
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-04-01
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101602304085 IPC(主分类):G01N 23/223 专利申请号:2013100054810 申请日:20130108
2017-03-01
授权
授权
2013-10-23
公开
公开
共 50 条
[1]
荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法
[P].
深井隆行
论文数:
0
引用数:
0
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0
深井隆行
;
的场吉毅
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的场吉毅
;
大柿真毅
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引用数:
0
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大柿真毅
.
中国专利
:CN109459458A
,2019-03-12
[2]
荧光X射线分析装置
[P].
二位肇
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0
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0
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0
二位肇
.
中国专利
:CN114746744A
,2022-07-12
[3]
荧光X射线分析装置以及荧光X射线分析方法
[P].
斋藤佑多
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引用数:
0
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0
斋藤佑多
.
中国专利
:CN112105919A
,2020-12-18
[4]
荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法
[P].
高原稔幸
论文数:
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0
高原稔幸
.
中国专利
:CN105628724A
,2016-06-01
[5]
荧光X射线分析装置
[P].
森久祐司
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0
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0
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机构:
株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
森久祐司
.
日本专利
:CN119023721A
,2024-11-26
[6]
荧光X射线分析装置
[P].
片冈由行
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片冈由行
;
古泽卫一
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古泽卫一
;
河野久征
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河野久征
.
中国专利
:CN1932493A
,2007-03-21
[7]
荧光X射线分析装置
[P].
河野久征
论文数:
0
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河野久征
;
庄司孝
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庄司孝
;
堂井真
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堂井真
.
中国专利
:CN1739023B
,2006-02-22
[8]
荧光X射线分析装置
[P].
迫幸雄
论文数:
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0
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迫幸雄
.
中国专利
:CN110088603A
,2019-08-02
[9]
荧光X射线分析装置
[P].
川上裕幸
论文数:
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机构:
株式会社理学
株式会社理学
川上裕幸
.
日本专利
:CN118556183A
,2024-08-27
[10]
荧光X射线分析装置
[P].
的场吉毅
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的场吉毅
;
深井隆行
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深井隆行
;
高桥正则
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高桥正则
;
一宫丰
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一宫丰
.
中国专利
:CN101052870A
,2007-10-10
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