荧光X射线分析装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610127560.9

申请日：

2006-09-12

公开(公告)号：

CN1932493A

公开(公告)日：

2007-03-21

发明(设计)人：

片冈由行古泽卫一河野久征

申请人：

申请人地址：

日本国大阪府高槻市赤大路町14番8号

IPC主分类号：

G01N23223

IPC分类号：

G01B1502

代理机构：

北京三幸商标专利事务所

代理人：

刘激扬

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-01-04	授权	授权
2009-04-08	专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)	专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更事项:申请人变更前权利人:理学电机工业株式会社变更后权利人:株式会社理学变更事项:地址变更前权利人:日本国大阪府高槻市赤大路町14番8号变更后权利人:日本国东京都登记生效日:20090306
2008-08-13	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-03-21	公开	公开

共 50 条

[1]

荧光X射线分析装置以及荧光X射线分析方法 [P].

斋藤佑多 .

中国专利 :CN112105919A ,2020-12-18

[2]

荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P].

高原稔幸 .

中国专利 :CN105628724A ,2016-06-01

[3]

荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P].

深井隆行 ;

的场吉毅 ;

大柿真毅 .

中国专利 :CN109459458A ,2019-03-12

[4]

荧光X射线分析装置 [P].

多田正市 ;

谷向贤 .

中国专利 :CN103364424A ,2013-10-23

[5]

荧光X射线分析装置 [P].

森久祐司 .

日本专利 :CN119023721A ,2024-11-26

[6]

荧光X射线分析装置 [P].

河野久征 ;

庄司孝 ;

堂井真 .

中国专利 :CN1739023B ,2006-02-22

[7]

荧光X射线分析装置 [P].

迫幸雄 .

中国专利 :CN110088603A ,2019-08-02

[8]

荧光X射线分析装置 [P].

川上裕幸 .

日本专利 :CN118556183A ,2024-08-27

[9]

荧光X射线分析装置 [P].

的场吉毅 ;

深井隆行 ;

高桥正则 ;

一宫丰 .

中国专利 :CN101052870A ,2007-10-10

[10]

荧光X射线分析装置 [P].

河野久征 ;

庄司孝 ;

堂井真 .

中国专利 :CN101520423B ,2009-09-02

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