悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180055796.5

申请日：

2011-11-21

公开(公告)号：

CN103222035A

公开(公告)日：

2013-07-24

发明(设计)人：

岩野友洋成田武宪龙崎大介

申请人：

申请人地址：

日本国东京都千代田区丸之内一丁目9番2号

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

C09K314 B24B3700

代理机构：

上海市华诚律师事务所 31210

代理人：

徐申民;杜娟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-07-24	公开	公开
2016-09-21	授权	授权
2013-12-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101552331057 IPC(主分类):H01L 21/304 专利申请号:2011800557965 申请日:20111121

共 50 条

[1]

悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板 [P].

岩野友洋 .

中国专利 :CN103222036A ,2013-07-24

[2]

悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板 [P].

岩野友洋 .

中国专利 :CN103409108B ,2013-11-27

[3]

悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板 [P].

岩野友洋 ;

成田武宪 ;

龙崎大介 .

中国专利 :CN103497732A ,2014-01-08

[4]

悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板 [P].

岩野友洋 ;

成田武宪 ;

龙崎大介 .

中国专利 :CN103500706A ,2014-01-08

[5]

悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板 [P].

岩野友洋 ;

成田武宪 ;

龙崎大介 .

中国专利 :CN103497733B ,2014-01-08

[6]

悬浮液、研磨液套剂、研磨液以及使用它们的基板的研磨方法 [P].

岩野友洋 ;

秋元启孝 ;

成田武宪 ;

木村忠广 ;

龙崎大介 .

中国专利 :CN102666014A ,2012-09-12

[7]

悬浮液、研磨液套剂、研磨液以及使用它们的基板的研磨方法 [P].

岩野友洋 ;

秋元启孝 ;

成田武宪 ;

木村忠广 ;

龙崎大介 .

中国专利 :CN107474799B ,2017-12-15

[8]

悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法及基体 [P].

岩野友洋 ;

南久贵 ;

阿久津利明 ;

藤崎耕司 .

中国专利 :CN104334675A ,2015-02-04

[9]

悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法及基体 [P].

岩野友洋 ;

南久贵 ;

阿久津利明 ;

藤崎耕司 .

中国专利 :CN104335331A ,2015-02-04

[10]

悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法及基体 [P].

岩野友洋 ;

南久贵 ;

阿久津利明 ;

藤崎耕司 .

中国专利 :CN104321854B ,2015-01-28

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