抛光垫、抛光垫的制备方法以及半导体器件的制造方法

被引：0

申请号：

CN202210479762.9

申请日：

2022-05-05

公开(公告)号：

CN115302402A

公开(公告)日：

2022-11-08

发明(设计)人：

郑恩先尹钟旭徐章源文秀泳

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

B24B3726

IPC分类号：

B24B3722 B24B3724 B24D1100 H01L213105

代理机构：

成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258

代理人：

赵瑞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-11-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/26 申请日:20220505
2022-11-08	公开	公开

共 50 条

[1]

抛光垫、抛光垫的制备方法以及半导体器件的制造方法 [P].

尹晟勋 ;

安宰仁 ;

郑恩先 ;

徐章源 .

中国专利 :CN115302401A ,2022-11-08

[2]

抛光垫、抛光垫的制备方法以及半导体器件的制造方法 [P].

郑恩先 ;

尹钟旭 ;

徐章源 ;

文秀泳 .

韩国专利 :CN115302402B ,2024-12-24

[3]

抛光垫、抛光垫的制备方法以及半导体器件的制造方法 [P].

尹晟勋 ;

安宰仁 ;

郑恩先 ;

徐章源 .

韩国专利 :CN115302401B ,2024-03-08

[4]

抛光垫、抛光垫的制备方法及半导体器件的制造方法 [P].

尹钟旭 ;

许惠暎 ;

郑恩先 ;

安宰仁 .

中国专利 :CN114762953A ,2022-07-19

[5]

抛光垫、抛光垫的制备方法及半导体器件的制造方法 [P].

尹钟旭 ;

郑恩先 ;

尹晟勋 ;

许惠暎 ;

徐章源 .

韩国专利 :CN115070608B ,2024-06-07

[6]

抛光垫、抛光垫的制备方法及半导体器件的制造方法 [P].

尹钟旭 ;

郑恩先 ;

尹晟勋 ;

许惠暎 ;

徐章源 .

中国专利 :CN115070608A ,2022-09-20

[7]

抛光垫、抛光垫的制造方法及半导体器件的制造方法 [P].

尹钟旭 ;

安宰仁 ;

郑恩先 ;

许惠暎 ;

徐章源 .

中国专利 :CN114310656A ,2022-04-12

[8]

抛光垫、抛光垫的制造方法及半导体器件的制造方法 [P].

尹钟旭 ;

安宰仁 ;

郑恩先 ;

许惠暎 ;

徐章源 .

韩国专利 :CN114310656B ,2024-03-08

[9]

抛光垫用片材、抛光垫以及半导体器件的制造方法 [P].

尹晟勋 ;

金京焕 ;

安宰仁 ;

徐章源 .

韩国专利 :CN114589618B ,2024-09-13

[10]

抛光垫用片材、抛光垫以及半导体器件的制造方法 [P].

尹晟勋 ;

金京焕 ;

安宰仁 ;

徐章源 .

中国专利 :CN114589618A ,2022-06-07

← 1 2 3 4 5 →