电子轰击离子源控制系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201020218117.4

申请日：

2010-06-08

公开(公告)号：

CN201829451U

公开(公告)日：

2011-05-11

发明(设计)人：

应刚张坤

申请人：

申请人地址：

215200 江苏省昆山市巴城镇苇城南路1666号天瑞大厦

IPC主分类号：

H01J4914

IPC分类号：

代理机构：

南京经纬专利商标代理有限公司 32200

代理人：

曹毅

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-05-11	授权	授权
2019-05-31	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 49/14 申请日:20100608 授权公告日:20110511 终止日期:20180608

共 50 条

[1]

电子轰击离子源控制系统 [P].

应刚 ;

张坤 .

中国专利 :CN102280348A ,2011-12-14

[2]

电子轰击离子源及其控制方法 [P].

杨天祥 ;

段炼 ;

马乔 ;

刘立鹏 ;

韩双来 .

中国专利 :CN114156159A ,2022-03-08

[3]

离子源控制系统 [P].

塞蒂·G·韦恩 ;

沃勒·V·威廉 .

中国专利 :CN1902728A ,2007-01-24

[4]

电子轰击与VUV紫外灯复合离子源系统 [P].

赵高升 ;

施月娥 .

中国专利 :CN213424921U ,2021-06-11

[5]

电子轰击离子源及离子化方法 [P].

杨天祥 ;

刘立鹏 ;

段炼 ;

马乔 ;

王海东 ;

韩双来 ;

邓嘉辉 .

中国专利 :CN113921371B ,2024-10-01

[6]

电子轰击离子源及离子化方法 [P].

杨天祥 ;

刘立鹏 ;

段炼 ;

马乔 ;

王海东 ;

韩双来 ;

邓嘉辉 .

中国专利 :CN113921371A ,2022-01-11

[7]

一种电子轰击离子源机构 [P].

章兰珠 ;

杨遂平 ;

郑磊 ;

谢党 .

中国专利 :CN103208411B ,2013-07-17

[8]

具有快速响应的电子轰击离子源 [P].

A·N·维尔恩驰寇韦 .

中国专利 :CN104254903A ,2014-12-31

[9]

离子源引出缝调节控制系统 [P].

谢均宇 ;

孙勇 ;

王玮琪 ;

王迪平 .

中国专利 :CN200964436Y ,2007-10-24

[10]

一种电子轰击离子源辅助装配架 [P].

杨少华 ;

李皓云 ;

赵征 ;

黄帅 ;

王睿 ;

李海军 ;

杨帆 ;

宋祎鹏 ;

王小维 ;

张瑞娟 ;

陶莉 ;

单丹 ;

朱伟东 ;

刘宇 ;

苗凯 ;

唐雅婷 ;

郭飘 ;

王伊一 ;

石姜璐 ;

吴静 .

中国专利 :CN222874455U ,2025-05-16

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