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一种针对KrF光刻剥离工艺的双层胶剥离方法
被引:0
申请号
:
CN202211183990.8
申请日
:
2022-09-27
公开(公告)号
:
CN115542687A
公开(公告)日
:
2022-12-30
发明(设计)人
:
段英丽
于海洋
孟腾飞
吴兵
袁燕
张倩
冯志博
倪烨
王君
时鹏程
申请人
:
申请人地址
:
100854 北京市海淀区永定路50号
IPC主分类号
:
G03F742
IPC分类号
:
G03F716
G03F730
G03F732
代理机构
:
北京轻创知识产权代理有限公司 11212
代理人
:
厉洋洋
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-12-30
公开
公开
2023-01-20
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20220927
共 50 条
[1]
一种用于剥离的双层胶光刻工艺方法
[P].
论文数:
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机构:
万文坚
;
论文数:
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机构:
曹俊诚
;
论文数:
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机构:
黎华
.
中国专利
:CN119247710A
,2025-01-03
[2]
一种声表面波滤波器应用泛曝光的双层胶剥离工艺
[P].
刘绍侃
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刘绍侃
;
张少华
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张少华
;
李善斌
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李善斌
;
蒋燕港
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蒋燕港
.
中国专利
:CN108037637A
,2018-05-15
[3]
一种光刻胶的剥离装置及剥离方法
[P].
王其辉
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王其辉
;
于凯
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于凯
;
白忠飞
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白忠飞
;
李伟
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李伟
;
宋泳珍
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宋泳珍
;
董志学
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董志学
;
郑云亮
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郑云亮
;
寇克瑜
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寇克瑜
;
徐国军
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徐国军
.
中国专利
:CN103913959A
,2014-07-09
[4]
一种光刻胶剥离系统及光刻胶剥离方法
[P].
郭昭
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郭昭
;
李炳天
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李炳天
;
王振
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王振
;
邓治国
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邓治国
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任志明
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任志明
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晏熙
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晏熙
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黄超
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黄超
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刘杰
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刘杰
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郭荣波
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郭荣波
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李显杰
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李显杰
.
中国专利
:CN111142342A
,2020-05-12
[5]
光刻胶剥离剂组合物和用该光刻胶剥离剂组合物剥离光刻胶的方法
[P].
韩熙
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韩熙
;
朴珉春
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朴珉春
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金璟晙
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金璟晙
;
徐圣佑
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徐圣佑
;
权赫俊
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权赫俊
;
安庆昊
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安庆昊
;
崔棅圭
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崔棅圭
;
闵盛晙
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闵盛晙
;
黄智泳
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黄智泳
.
中国专利
:CN101454872B
,2009-06-10
[6]
一种水平式光刻胶剥离工艺
[P].
卢晶晶
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卢晶晶
.
中国专利
:CN114924468A
,2022-08-19
[7]
一种光刻胶图形化方法及双层光刻胶剥离方法
[P].
李天慧
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李天慧
;
赵珂
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赵珂
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梁慧
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梁慧
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于星
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于星
;
张振振
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张振振
.
中国专利
:CN113075868A
,2021-07-06
[8]
一种光刻胶图形化方法及双层光刻胶剥离方法
[P].
李天慧
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
李天慧
;
赵珂
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
赵珂
;
梁慧
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
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梁慧
;
于星
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芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
于星
;
张振振
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
张振振
.
中国专利
:CN113075868B
,2024-07-02
[9]
光刻胶剥离设备及其剥离方法
[P].
孟祥国
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孟祥国
;
李全波
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李全波
;
陆连
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陆连
.
中国专利
:CN109254506A
,2019-01-22
[10]
光刻胶剥离方法
[P].
陆王佳
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机构:
天通瑞宏科技有限公司
天通瑞宏科技有限公司
陆王佳
;
翁赵怡
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机构:
天通瑞宏科技有限公司
天通瑞宏科技有限公司
翁赵怡
;
陆晨鑫
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机构:
天通瑞宏科技有限公司
天通瑞宏科技有限公司
陆晨鑫
;
甘立云
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机构:
天通瑞宏科技有限公司
天通瑞宏科技有限公司
甘立云
;
曹佳辉
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机构:
天通瑞宏科技有限公司
天通瑞宏科技有限公司
曹佳辉
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朱毅
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机构:
天通瑞宏科技有限公司
天通瑞宏科技有限公司
朱毅
;
郑万钧
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机构:
天通瑞宏科技有限公司
天通瑞宏科技有限公司
郑万钧
;
朱一彬
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机构:
天通瑞宏科技有限公司
天通瑞宏科技有限公司
朱一彬
.
中国专利
:CN119340202A
,2025-01-21
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