单晶硅片水基清洗剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810011318.4

申请日：

2008-05-09

公开(公告)号：

CN101265439A

公开(公告)日：

2008-09-17

发明(设计)人：

张魁兰

申请人：

申请人地址：

116023辽宁省大连市高新技术园区高能街30号(大连三达奥克化学股份有限公司)

IPC主分类号：

C11D166

IPC分类号：

C11D343 C11D330 C11D320 C11D310

代理机构：

大连非凡专利事务所

代理人：

闪红霞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-09-17	公开	公开
2011-07-13	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101114500162 IPC(主分类):C11D 1/66 专利申请号:2008100113184 公开日:20080917
2009-11-11	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

多晶硅片水基清洗剂 [P].

张魁兰 .

中国专利 :CN101265441A ,2008-09-17

[2]

一种单晶硅片清洗剂及其应用 [P].

喻桉 ;

史华红 ;

麦裕良 ;

文武 .

中国专利 :CN112608799B ,2021-04-06

[3]

高效水基清洗剂 [P].

卢建兵 .

中国专利 :CN102936538A ,2013-02-20

[4]

一种太阳能单晶硅片清洗剂 [P].

张兆民 .

中国专利 :CN107118873A ,2017-09-01

[5]

一种太阳能单晶硅片清洗剂 [P].

孙湘辉 ;

邵凡 .

中国专利 :CN103710179B ,2014-04-09

[6]

单晶硅样片清洗剂和清洗方法 [P].

钟峰 ;

蔺宝林 ;

周佑林 ;

潘洁 .

中国专利 :CN115537272A ,2022-12-30

[7]

一种半导体单晶硅清洗剂及其清洗方法 [P].

王全文 ;

李鹭 ;

杨蛟 .

中国专利 :CN108753478A ,2018-11-06

[8]

水基精密清洗剂 [P].

张晓东 ;

刘杰 .

中国专利 :CN101007987A ,2007-08-01

[9]

水基清洗剂 [P].

朱荣龙 ;

蔡林森 ;

张铮 .

中国专利 :CN101538512B ,2009-09-23

[10]

硅片预清洗剂 [P].

孙爱玲 .

中国专利 :CN103666784A ,2014-03-26

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