一种光刻机水平测量装置及测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210451764.3

申请日：

2012-11-12

公开(公告)号：

CN103809383A

公开(公告)日：

2014-05-21

发明(设计)人：

王天明

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G01C918

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-06-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101583082767 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2012104517643 申请日:20121112
2014-05-21	公开	公开
2017-01-04	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101744535237 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2012104517643 申请公布日:20140521

共 50 条

[1]

一种光刻机垂向距离测量装置及测量方法 [P].

王天明 .

中国专利 :CN103969957A ,2014-08-06

[2]

光刻机水平向测量装置及方法 [P].

杨玉杰 .

中国专利 :CN108020995B ,2018-05-11

[3]

垂向测量装置、垂向测量方法及光刻机 [P].

蓝科 ;

陈彩莲 ;

王易因 ;

刘逍 ;

赖勇 ;

李煜芝 ;

程建瑞 .

中国专利 :CN117192917B ,2024-12-31

[4]

用于光刻机设备测量组件的测量方法、装置及光刻机 [P].

冯建斌 ;

陈南曙 .

中国专利 :CN114063400B ,2022-02-18

[5]

一种波像差测量装置、测量方法及光刻机 [P].

赵灿武 ;

马明英 .

中国专利 :CN112014070A ,2020-12-01

[6]

一种扫描光刻机掩模台位置测量装置及测量方法 [P].

许琦欣 .

中国专利 :CN102087475B ,2011-06-08

[7]

一种光刻机成像质量测量方法 [P].

李术新 ;

王帆 .

中国专利 :CN101169594A ,2008-04-30

[8]

光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置及测量方法 [P].

苏佳妮 ;

卢增雄 ;

齐月静 ;

杨光华 ;

王宇 .

中国专利 :CN108508709B ,2024-04-02

[9]

光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置及测量方法 [P].

苏佳妮 ;

卢增雄 ;

齐月静 ;

杨光华 ;

王宇 .

中国专利 :CN108508709A ,2018-09-07

[10]

光刻机物面测量方法及光刻机光学系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

沈全安 ;

盛昕 .

中国专利 :CN120445090B ,2025-10-31

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