一种光刻机成像质量测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710170916.1

申请日：

2007-11-23

公开(公告)号：

CN101169594A

公开(公告)日：

2008-04-30

发明(设计)人：

李术新王帆

申请人：

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-17	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101751594923 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2007101709161 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
2010-06-09	授权	授权
2008-04-30	公开	公开
2008-06-25	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

一种光刻机成像质量现场测量方法 [P].

李术新 ;

王帆 .

中国专利 :CN101241312A ,2008-08-13

[2]

光刻机成像质量及工件台定位精度的测量系统与测量方法 [P].

李术新 ;

王帆 .

中国专利 :CN101261451A ,2008-09-10

[3]

光刻机剂量均匀性的测量方法 [P].

刘泽华 ;

陈震东 .

中国专利 :CN112731768B ,2021-04-30

[4]

一种光刻机杂散光的自动测量方法 [P].

李术新 .

中国专利 :CN100559284C ,2008-07-16

[5]

一种基于CCD成像的光刻机相干因子测量方法 [P].

曹益平 ;

苏显渝 ;

张启灿 ;

向立群 ;

陈文静 .

中国专利 :CN108303855A ,2018-07-20

[6]

一种光刻机水平测量装置及测量方法 [P].

王天明 .

中国专利 :CN103809383A ,2014-05-21

[7]

光刻机成像质量的检测方法 [P].

施伟杰 ;

王向朝 ;

张冬青 .

中国专利 :CN1673871A ,2005-09-28

[8]

用于光刻机设备测量组件的测量方法、装置及光刻机 [P].

冯建斌 ;

陈南曙 .

中国专利 :CN114063400B ,2022-02-18

[9]

光刻机成像光学系统像差现场测量方法 [P].

王帆 ;

马明英 ;

王向朝 .

中国专利 :CN100474115C ,2006-11-15

[10]

光刻机物面测量方法及光刻机光学系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

沈全安 ;

盛昕 .

中国专利 :CN120445090B ,2025-10-31

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