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光刻机剂量均匀性的测量方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201911039601.2
申请日：
2019-10-29
公开(公告)号：
CN112731768B
公开(公告)日：
2021-04-30
发明(设计)人：
刘泽华
陈震东
申请人：
申请人地址：
201203 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人：
孟金喆
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-10-15 | 授权 | 授权 |
| 2021-05-21 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20191029 |
| 2021-04-30 | 公开 | 公开 |