光刻机成像光学系统像差现场测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610025445.0

申请日：

2006-04-04

公开(公告)号：

CN100474115C

公开(公告)日：

2006-11-15

发明(设计)人：

王帆马明英王向朝

申请人：

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

上海智信专利代理有限公司

代理人：

王洁

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-04-01	授权	授权
2006-11-15	公开	公开
2018-04-27	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备（集团）股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
2007-01-10	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

成像光学系统像差的现场测量方法 [P].

王帆 ;

王向朝 .

中国专利 :CN1570585A ,2005-01-26

[2]

一种成像光学系统像差现场测量方法及装置 [P].

王帆 ;

段立峰 ;

马明英 ;

孙刚 .

中国专利 :CN101320219A ,2008-12-10

[3]

光刻机物面测量方法及光刻机光学系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

沈全安 ;

盛昕 .

中国专利 :CN120445090B ,2025-10-31

[4]

光刻机物面测量方法及光刻机光学系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

沈全安 ;

盛昕 .

中国专利 :CN120445090A ,2025-08-08

[5]

光刻机照明系统偏振测量用光学系统 [P].

蔡燕民 ;

王向朝 .

中国专利 :CN103364927B ,2013-10-23

[6]

一种光刻机投影物镜波像差现场测量方法 [P].

袁琼雁 ;

李亮 ;

杨志勇 .

中国专利 :CN102129173B ,2011-07-20

[7]

物镜像差校正镜及像差校正方法和光学系统、光刻机 [P].

郭银章 .

中国专利 :CN107797218B ,2018-03-13

[8]

微光刻成像光学系统 [P].

O.罗家尔斯基 ;

S.施耐德 ;

B.比特纳 ;

J.库格勒 ;

B.格尔里奇 ;

R.弗雷曼 .

中国专利 :CN103140803A ,2013-06-05

[9]

成像场曲补偿组件、光学系统及光刻机 [P].

赖勇 ;

刁雷 ;

赵丽丽 ;

蓝科 ;

张俊杰 .

中国专利 :CN117666290A ,2024-03-08

[10]

施瓦茨光学系统波像差测量方法 [P].

戴凤钊 ;

王向朝 ;

蔡燕民 .

中国专利 :CN104236855A ,2014-12-24

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