成像场曲补偿组件、光学系统及光刻机

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202211060597.X

申请日：

2022-08-31

公开(公告)号：

CN117666290A

公开(公告)日：

2024-03-08

发明(设计)人：

赖勇刁雷赵丽丽蓝科张俊杰

申请人：

上海微电子装备（集团）股份有限公司

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司 31295

代理人：

闫学文

法律状态：

公开

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-08	公开	公开
2024-03-26	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20220831
2025-07-25	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移IPC(主分类):G03F 7/20登记生效日:20250711变更事项:申请人变更前权利人:上海微电子装备（集团）股份有限公司变更后权利人:上海芯上微装科技股份有限公司变更事项:国家或地区变更前权利人:中国变更后权利人:中国变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张东路1525号变更后权利人:201203 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区郭守敬路498号8幢19号楼3层

共 50 条

[1]

光刻机物面测量方法及光刻机光学系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

沈全安 ;

盛昕 .

中国专利 :CN120445090B ,2025-10-31

[2]

光刻机物面测量方法及光刻机光学系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

沈全安 ;

盛昕 .

中国专利 :CN120445090A ,2025-08-08

[3]

消光装置、光学系统及光刻机 [P].

裴万生 ;

刁雷 ;

周剑锋 .

中国专利 :CN207780484U ,2018-08-28

[4]

光刻机成像光学系统像差现场测量方法 [P].

王帆 ;

马明英 ;

王向朝 .

中国专利 :CN100474115C ,2006-11-15

[5]

一种像质补偿装置、光学系统及光刻机 [P].

杨若霁 ;

王彦飞 ;

姜文庆 .

中国专利 :CN111381359A ,2020-07-07

[6]

光刻机照明系统偏振测量用光学系统 [P].

蔡燕民 ;

王向朝 .

中国专利 :CN103364927B ,2013-10-23

[7]

微光刻成像光学系统 [P].

O.罗家尔斯基 ;

S.施耐德 ;

B.比特纳 ;

J.库格勒 ;

B.格尔里奇 ;

R.弗雷曼 .

中国专利 :CN103140803A ,2013-06-05

[8]

一种接近式光刻机光学系统 [P].

徐占辉 ;

张晓辉 ;

霍荣标 ;

尹建刚 ;

高云峰 .

中国专利 :CN209471337U ,2019-10-08

[9]

光学元件支撑结构、单元镜组、曝光光学系统及光刻机 [P].

倪明阳 ;

华洋洋 ;

于新峰 ;

郭抗 ;

隋永新 ;

杨怀江 .

中国专利 :CN105739248B ,2016-07-06

[10]

一种投影物镜光学系统及光刻机 [P].

侯宝路 .

中国专利 :CN109991816A ,2019-07-09

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