成像光学系统像差的现场测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410018034.X

申请日：

2004-04-29

公开(公告)号：

CN1570585A

公开(公告)日：

2005-01-26

发明(设计)人：

王帆王向朝

申请人：

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区春晓路439号15号楼

IPC主分类号：

G01M1102

IPC分类号：

G01M1100 G03F720 H01L21027

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

王敏杰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-01-26	公开	公开
2005-03-23	实质审查的生效	实质审查的生效
2017-12-22	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G01M 11/02 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备（集团）股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张江高科技园区春晓路439号15号楼变更后:201203 上海市张江高科技园区春晓路439号15号楼
2007-04-25	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻机成像光学系统像差现场测量方法 [P].

王帆 ;

马明英 ;

王向朝 .

中国专利 :CN100474115C ,2006-11-15

[2]

一种成像光学系统像差现场测量方法及装置 [P].

王帆 ;

段立峰 ;

马明英 ;

孙刚 .

中国专利 :CN101320219A ,2008-12-10

[3]

成像光学系统的像差评估方法及其调整方法 [P].

松山知行 .

中国专利 :CN1441236A ,2003-09-10

[4]

施瓦茨光学系统波像差测量方法 [P].

戴凤钊 ;

王向朝 ;

蔡燕民 .

中国专利 :CN104236855A ,2014-12-24

[5]

光学系统像差的数字校正 [P].

德米特里·瓦莱里维奇·施穆克 ;

维克多·亚历山德罗维奇·莫纳雷夫 .

中国专利 :CN110023810A ,2019-07-16

[6]

成像光学系统 [P].

金井纪文 ;

约耳·科维尔 .

中国专利 :CN102016682A ,2011-04-13

[7]

成像光学系统 [P].

王亚亚 .

中国专利 :CN111722375A ,2020-09-29

[8]

成像光学系统 [P].

高漥豊 .

中国专利 :CN204557033U ,2015-08-12

[9]

成像光学系统 [P].

冈山裕昭 ;

吉川智延 ;

吉次庆记 ;

山本义春 .

中国专利 :CN101233429B ,2008-07-30

[10]

成像光学系统 [P].

臼井彬寿 ;

高漥豊 .

中国专利 :CN107203032A ,2017-09-26

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