一种光刻机杂散光的自动测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810032843.4

申请日：

2008-01-21

公开(公告)号：

CN100559284C

公开(公告)日：

2008-07-16

发明(设计)人：

李术新

申请人：

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-07-16	公开	公开
2017-06-23	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101754202429 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2008100328434 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
2008-09-10	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-11-11	授权	授权

共 50 条

[1]

一种光刻机成像质量测量方法 [P].

李术新 ;

王帆 .

中国专利 :CN101169594A ,2008-04-30

[2]

一种光刻机成像质量现场测量方法 [P].

李术新 ;

王帆 .

中国专利 :CN101241312A ,2008-08-13

[3]

用于光刻机设备测量组件的测量方法、装置及光刻机 [P].

冯建斌 ;

陈南曙 .

中国专利 :CN114063400B ,2022-02-18

[4]

光刻机剂量均匀性的测量方法 [P].

刘泽华 ;

陈震东 .

中国专利 :CN112731768B ,2021-04-30

[5]

一种光刻机水平测量装置及测量方法 [P].

王天明 .

中国专利 :CN103809383A ,2014-05-21

[6]

光刻机物面测量方法及光刻机光学系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

沈全安 ;

盛昕 .

中国专利 :CN120445090B ,2025-10-31

[7]

光刻机物面测量方法及光刻机光学系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

沈全安 ;

盛昕 .

中国专利 :CN120445090A ,2025-08-08

[8]

杂散光测量装置及其测量方法、杂散光测量系统 [P].

牛钧杰 .

中国专利 :CN115268219B ,2025-03-14

[9]

一种波像差测量装置、测量方法及光刻机 [P].

赵灿武 ;

马明英 .

中国专利 :CN112014070A ,2020-12-01

[10]

一种光刻机投影物镜波像差的测量方法 [P].

刘世元 ;

许爽 ;

龚朋 ;

周新江 ;

吕稳 .

中国专利 :CN103616802A ,2014-03-05

← 1 2 3 4 5 →