用于在衬底表面上形成图案化特征的方法和系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111002304.8

申请日：

2021-08-30

公开(公告)号：

CN114203547A

公开(公告)日：

2022-03-18

发明(设计)人：

李承泫具盻炫金显哲井上尚树

申请人：

申请人地址：

荷兰阿尔梅勒

IPC主分类号：

H01L21311

IPC分类号：

H01L2132

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

焦玉恒

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-18	公开	公开

共 50 条

[1]

在衬底表面上形成硅化钼层的方法 [P].

D·厄尔努尔 ;

J·W·梅斯 .

:CN119480616A ,2025-02-18

[2]

在衬底表面上形成氮氧化层和氧化层的方法 [P].

K·威克茨瑞克 ;

F·格雷奇 ;

S·吕克格尔 .

中国专利 :CN1315162C ,2005-05-25

[3]

在衬底表面上提供多层涂料的方法 [P].

T·伯恩哈德 ;

A·彼得 ;

M·嫚斯崎 ;

F·布鲁宁 ;

T·比尔凯-特洛尼 ;

H·布伦纳 .

中国专利 :CN109790622A ,2019-05-21

[4]

填充衬底表面上的沟槽的方法 [P].

A·雷姆涅夫 ;

川岛孝弘 ;

F·W·阿玛拉贾 ;

T·萨哈 .

:CN119725217A ,2025-03-28

[5]

填充衬底表面上的沟槽的方法 [P].

智广久保田 ;

杉浦博次 ;

菊地良幸 ;

A·米什拉 ;

A·雷姆涅夫 .

:CN119480780A ,2025-02-18

[6]

在衬底表面上产生电功能层的方法 [P].

K·韦德纳 ;

R·温克 ;

J·-C·霍尔斯特 ;

J·D·詹森 .

中国专利 :CN101501830B ,2009-08-05

[7]

用于在表面上产生导电图案的方法和装置 [P].

派翠·瑟维奥 ;

尤哈·麦加拉 .

中国专利 :CN104206030B ,2014-12-10

[8]

防止衬底表面上烟雾生长的装置和方法 [P].

E·M·弗赖伊 ;

L·E·弗里萨 .

中国专利 :CN101395697A ,2009-03-25

[9]

在衬底表面上使用等离子体填充间隙的方法 [P].

一之濑秀 .

:CN120060816A ,2025-05-30

[10]

在衬底表面上淀积膜的方法和由该方法制造的衬底 [P].

安崎利明 ;

荻野悦男 ;

丰岛隆之 .

中国专利 :CN1271784A ,2000-11-01

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