用于在表面上产生导电图案的方法和装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380007297.8

申请日：

2013-01-30

公开(公告)号：

CN104206030B

公开(公告)日：

2014-12-10

发明(设计)人：

派翠·瑟维奥尤哈·麦加拉

申请人：

申请人地址：

芬兰赫尔辛基

IPC主分类号：

H05K310

IPC分类号：

H05K312

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-01	授权	授权
2022-09-02	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H05K 3/10 登记生效日:20220819 变更事项:专利权人变更前权利人:斯塔诺阿埃索澳吉有限公司变更后权利人:芬兰数字标签公司变更事项:地址变更前权利人:芬兰赫尔辛基变更后权利人:芬兰坦佩雷
2015-03-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101600304002 IPC(主分类):H05K 3/10 专利申请号:2013800072978 申请日:20130130
2014-12-10	公开	公开

共 50 条

[1]

用于在衬底表面上形成图案化特征的方法和系统 [P].

李承泫 ;

具盻炫 ;

金显哲 ;

井上尚树 .

中国专利 :CN114203547A ,2022-03-18

[2]

在衬底表面上产生电功能层的方法 [P].

K·韦德纳 ;

R·温克 ;

J·-C·霍尔斯特 ;

J·D·詹森 .

中国专利 :CN101501830B ,2009-08-05

[3]

防止衬底表面上烟雾生长的装置和方法 [P].

E·M·弗赖伊 ;

L·E·弗里萨 .

中国专利 :CN101395697A ,2009-03-25

[4]

填充衬底表面上的沟槽的方法 [P].

智广久保田 ;

杉浦博次 ;

菊地良幸 ;

A·米什拉 ;

A·雷姆涅夫 .

:CN119480780A ,2025-02-18

[5]

填充衬底表面上的沟槽的方法 [P].

A·雷姆涅夫 ;

川岛孝弘 ;

F·W·阿玛拉贾 ;

T·萨哈 .

:CN119725217A ,2025-03-28

[6]

在衬底表面上提供多层涂料的方法 [P].

T·伯恩哈德 ;

A·彼得 ;

M·嫚斯崎 ;

F·布鲁宁 ;

T·比尔凯-特洛尼 ;

H·布伦纳 .

中国专利 :CN109790622A ,2019-05-21

[7]

用于产生形貌图案化衬底的方法和装置 [P].

托马斯·R·阿尔布雷克特 ;

杨宏渊 .

中国专利 :CN100585490C ,2006-12-20

[8]

将可冷凝材料沉积到衬底表面上的方法 [P].

江裕志 ;

福田秀明 .

:CN117364066A ,2024-01-09

[9]

在衬底表面上形成氮氧化层和氧化层的方法 [P].

K·威克茨瑞克 ;

F·格雷奇 ;

S·吕克格尔 .

中国专利 :CN1315162C ,2005-05-25

[10]

在衬底表面上形成硅化钼层的方法 [P].

D·厄尔努尔 ;

J·W·梅斯 .

:CN119480616A ,2025-02-18

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