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蚀刻液及其制备方法和应用
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111276160.5
申请日
:
2021-10-29
公开(公告)号
:
CN113957441A
公开(公告)日
:
2022-01-21
发明(设计)人
:
周志强
袁明军
李治文
杜小林
胡秋雨
刘彬云
申请人
:
申请人地址
:
511400 广东省广州市番禺区石楼镇创启路63号创启7号楼
IPC主分类号
:
C23F126
IPC分类号
:
H01L213213
H01L21768
代理机构
:
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
:
黎金娣
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-01-21
公开
公开
2022-02-15
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23F 1/26 申请日:20211029
共 50 条
[1]
蚀刻液及其制备方法和应用
[P].
周志强
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
周志强
;
袁明军
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
袁明军
;
李治文
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
李治文
;
杜小林
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
杜小林
;
胡秋雨
论文数:
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0
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
胡秋雨
;
刘彬云
论文数:
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
刘彬云
.
中国专利
:CN113957441B
,2024-01-02
[2]
铝钼蚀刻液及其制备方法和应用
[P].
张伟明
论文数:
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
张伟明
;
聂航
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
聂航
;
章学春
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
章学春
;
李玉兴
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
李玉兴
;
刘明辉
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
刘明辉
;
朱旺
论文数:
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
朱旺
.
中国专利
:CN119491226A
,2025-02-21
[3]
蚀刻液及其制备方法与应用
[P].
周志强
论文数:
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周志强
;
胡秋雨
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胡秋雨
;
袁明军
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袁明军
;
李治文
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李治文
;
钟上彪
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钟上彪
;
刘彬云
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刘彬云
.
中国专利
:CN114752939A
,2022-07-15
[4]
蚀刻液及其制备方法与应用
[P].
周志强
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
周志强
;
胡秋雨
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
胡秋雨
;
袁明军
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
袁明军
;
李治文
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
李治文
;
钟上彪
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
钟上彪
;
刘彬云
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机构:
光华科学技术研究院(广东)有限公司
光华科学技术研究院(广东)有限公司
刘彬云
.
中国专利
:CN114752939B
,2024-07-16
[5]
陶瓷蚀刻液及其制备方法和应用、蚀刻陶瓷
[P].
陈琳
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机构:
蓝思科技(长沙)有限公司
蓝思科技(长沙)有限公司
陈琳
;
高源
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机构:
蓝思科技(长沙)有限公司
蓝思科技(长沙)有限公司
高源
.
中国专利
:CN120624022A
,2025-09-12
[6]
铜蚀刻液及其制备方法和应用、铜蚀刻方法
[P].
董艳
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董艳
;
王逸群
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王逸群
;
王洋洋
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王洋洋
;
冯海通
论文数:
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冯海通
.
中国专利
:CN105624679A
,2016-06-01
[7]
银蚀刻液组合物及其制备方法和应用
[P].
张伟明
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
张伟明
;
刘明辉
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
刘明辉
;
聂航
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
聂航
;
姜欣奕
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
姜欣奕
;
衡京
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
衡京
.
中国专利
:CN120350379A
,2025-07-22
[8]
一种蚀刻液及其制备方法和应用
[P].
颜光明
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颜光明
;
雷霆
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雷霆
;
詹振翔
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詹振翔
;
吕依芮
论文数:
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吕依芮
.
中国专利
:CN112430815A
,2021-03-02
[9]
铜钼金属蚀刻液及其制备方法和应用
[P].
张伟明
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
张伟明
;
姜欣奕
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
姜欣奕
;
章学春
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
章学春
;
衡京
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
衡京
;
聂航
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
聂航
;
刘明辉
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机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
刘明辉
.
中国专利
:CN119710702A
,2025-03-28
[10]
一种蚀刻液及其制备方法和应用
[P].
金炳生
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金炳生
;
刘耀鹏
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刘耀鹏
;
高小云
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高小云
;
刘兵
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刘兵
.
中国专利
:CN113773840B
,2021-12-10
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