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半导体装置的形成方法
被引:0
申请号
:
CN202210087912.1
申请日
:
2022-01-25
公开(公告)号
:
CN114823518A
公开(公告)日
:
2022-07-29
发明(设计)人
:
姆鲁尼尔·阿必吉斯·卡迪尔巴德
陈科夆
梁正庸
王振翰
邱德洋
彭羽筠
林耕竹
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市
IPC主分类号
:
H01L218234
IPC分类号
:
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
黄艳
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-07-29
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体装置的形成方法
[P].
李佩璇
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李佩璇
;
纪志坚
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纪志坚
;
刘育瑛
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刘育瑛
.
中国专利
:CN112530860A
,2021-03-19
[2]
半导体装置的形成方法
[P].
周典霈
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周典霈
;
郑宇彣
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郑宇彣
;
林钰庭
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林钰庭
;
王俊杰
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王俊杰
;
张根育
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张根育
;
白岳青
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白岳青
.
中国专利
:CN109841562A
,2019-06-04
[3]
半导体装置的形成方法
[P].
李健玮
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李健玮
;
宋学昌
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宋学昌
;
李彦儒
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李彦儒
.
中国专利
:CN112447520A
,2021-03-05
[4]
半导体装置的形成方法
[P].
李健玮
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李健玮
;
宋学昌
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
宋学昌
;
李彦儒
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李彦儒
.
中国专利
:CN112447520B
,2025-09-05
[5]
半导体装置及其形成方法
[P].
陈靖怡
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陈靖怡
;
卢炜业
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卢炜业
;
陈泓旭
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陈泓旭
;
张志维
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张志维
.
中国专利
:CN110660726B
,2020-01-07
[6]
半导体装置的形成方法
[P].
蔡万霖
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蔡万霖
;
许仲豪
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许仲豪
;
张竞予
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张竞予
;
王仁宏
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王仁宏
;
潘兴强
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潘兴强
;
李资良
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李资良
.
中国专利
:CN109585280B
,2019-04-05
[7]
半导体装置的形成方法
[P].
许议文
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许议文
;
陈哲明
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陈哲明
.
中国专利
:CN110783196A
,2020-02-11
[8]
半导体装置的形成方法
[P].
林资敬
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林资敬
;
郭建亿
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郭建亿
;
舒丽丽
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舒丽丽
;
李启弘
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李启弘
.
中国专利
:CN110648917A
,2020-01-03
[9]
半导体装置的形成方法
[P].
傅世豪
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傅世豪
;
周鸿儒
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周鸿儒
;
张哲纶
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张哲纶
;
郭俊铭
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郭俊铭
;
彭远清
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彭远清
;
林颂恩
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林颂恩
;
郑农哲
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郑农哲
;
王俊尧
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王俊尧
.
中国专利
:CN114038801A
,2022-02-11
[10]
半导体装置的形成方法
[P].
戴铭家
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
戴铭家
;
曾主元
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
曾主元
;
江欣哲
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
江欣哲
;
黄渊圣
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄渊圣
;
梁春昇
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
梁春昇
.
中国专利
:CN110783182B
,2024-08-23
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