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离子源以及离子注入装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201780039506.5
申请日
:
2017-12-27
公开(公告)号
:
CN109314025A
公开(公告)日
:
2019-02-05
发明(设计)人
:
汤瀬琢巳
寺泽寿浩
佐佐木德康
申请人
:
申请人地址
:
日本神奈川县
IPC主分类号
:
H01J2702
IPC分类号
:
H01J3708
H01J37317
H01L21265
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
李婷;谭祐祥
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-05-15
授权
授权
2019-02-05
公开
公开
2019-03-05
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 27/02 申请日:20171227
共 50 条
[1]
离子源以及离子注入装置
[P].
许飞
论文数:
0
引用数:
0
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0
许飞
;
秦斌
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秦斌
;
汪东
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汪东
;
周智
论文数:
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周智
;
於鹏飞
论文数:
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0
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0
於鹏飞
.
中国专利
:CN104425198A
,2015-03-18
[2]
离子源及离子注入装置以及离子源的运转方法
[P].
东明男
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0
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0
东明男
;
佐佐木德康
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佐佐木德康
;
寺泽寿浩
论文数:
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寺泽寿浩
.
中国专利
:CN110998779A
,2020-04-10
[3]
离子源、离子注入装置和离子注入方法
[P].
陈子强
论文数:
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机构:
香港科技大学(广州)
香港科技大学(广州)
陈子强
;
廖逸民
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0
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0
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0
机构:
香港科技大学(广州)
香港科技大学(广州)
廖逸民
.
中国专利
:CN117995632B
,2025-05-09
[4]
离子源、离子注入装置和离子注入方法
[P].
陈子强
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机构:
广州拓诺稀科技有限公司
广州拓诺稀科技有限公司
陈子强
;
廖逸民
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机构:
广州拓诺稀科技有限公司
广州拓诺稀科技有限公司
廖逸民
.
中国专利
:CN117995632A
,2024-05-07
[5]
离子源和离子注入装置
[P].
佐佐木德康
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佐佐木德康
;
东明男
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东明男
;
寺泽寿浩
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寺泽寿浩
.
中国专利
:CN110100296B
,2019-08-06
[6]
离子源和离子注入装置
[P].
山下贵敏
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0
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山下贵敏
.
中国专利
:CN102832094A
,2012-12-19
[7]
离子源及离子注入装置
[P].
邸太平
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0
邸太平
;
洪纪伦
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洪纪伦
;
倪明明
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倪明明
;
吴宗祐
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吴宗祐
;
林宗贤
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林宗贤
.
中国专利
:CN208753260U
,2019-04-16
[8]
离子源和离子注入装置
[P].
山元徹朗
论文数:
0
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0
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0
山元徹朗
.
中国专利
:CN110137063A
,2019-08-16
[9]
离子源及离子注入装置
[P].
井内裕
论文数:
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0
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井内裕
.
中国专利
:CN108054071B
,2018-05-18
[10]
离子源终止器及离子注入装置
[P].
高波
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高波
;
单易飞
论文数:
0
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0
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单易飞
.
中国专利
:CN206116344U
,2017-04-19
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