一种丙烯酸酯类光刻胶单体的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201910952515.4
申请日
2019-10-09
公开(公告)号
CN110590714B
公开(公告)日
2019-12-20
发明(设计)人
傅志伟 贺宝元 潘新刚 余文卿 郭有壹
申请人
申请人地址
201614 上海市松江区中心路1158号9号楼3M层
IPC主分类号
C07D30700
IPC分类号
C07D30793
代理机构
上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313
代理人
林高锋
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种甲基丙烯酸酯类光刻胶树脂单体的制备方法 [P]. 
马乐 ;
刘文昭 ;
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[2]
一种有机硅改性丙烯酸酯类光刻胶及其制备方法 [P]. 
刘兴江 ;
魏柳荷 ;
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[3]
一种光刻胶树脂单体丙烯酸酯类化合物的HPLC分析方法 [P]. 
孙凤霞 ;
杨浩 ;
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[4]
一种交联型丙烯酸酯类共聚物及其光刻胶 [P]. 
秦龙 ;
许箭 ;
汪武平 ;
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[5]
一种基于MIL-101-丙烯酸酯类单体复合物用于负性光刻胶的制备方法 [P]. 
陈远富 ;
刘小菲 ;
巩明浩 ;
张万里 .
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[6]
一种聚氨酯丙烯酸酯光刻胶及其制备方法 [P]. 
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陈胜楠 ;
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[7]
一种聚氨酯丙烯酸酯光刻胶及其制备方法 [P]. 
殷鹏 ;
李宁 ;
曾芳磊 ;
林文博 ;
陈胜楠 ;
黄建霖 ;
李九睿 ;
蒋陈晶 ;
徐越 ;
张昊 .
中国专利 :CN115016228A ,2022-09-06
[8]
一种基于POSS超支化结构丙烯酸酯类树脂的负性光刻胶 [P]. 
崔淑英 ;
毕研刚 ;
李晓珂 ;
王英杰 ;
王久元 ;
豆帆 ;
颜俊雄 ;
朱洪维 .
中国专利 :CN120972457A ,2025-11-18
[9]
用于干法刻蚀的丙烯酸酯类负性光刻胶膜及其制备方法 [P]. 
周元基 ;
向容 .
中国专利 :CN114236966B ,2025-01-21
[10]
用于干法刻蚀的丙烯酸酯类负性光刻胶膜及其制备方法 [P]. 
周元基 ;
向容 .
中国专利 :CN114236966A ,2022-03-25