用于干法刻蚀的丙烯酸酯类负性光刻胶膜及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111569372.2

申请日：

2021-12-21

公开(公告)号：

CN114236966A

公开(公告)日：

2022-03-25

发明(设计)人：

周元基向容

申请人：

申请人地址：

261000 山东省潍坊市高新技术开发区清池街道府东社区高二路417号2号楼1-2层

IPC主分类号：

G03F7038

IPC分类号：

G03F7033 G03F716 G03F738 G03F740

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463

代理人：

张金铭

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-25	公开	公开
2022-04-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/038 申请日:20211221

共 50 条

[1]

用于干法刻蚀的丙烯酸酯类负性光刻胶膜及其制备方法 [P].

周元基 ;

向容 .

中国专利 :CN114236966B ,2025-01-21

[2]

一种基于POSS超支化结构丙烯酸酯类树脂的负性光刻胶 [P].

崔淑英 ;

毕研刚 ;

李晓珂 ;

王英杰 ;

王久元 ;

豆帆 ;

颜俊雄 ;

朱洪维 .

中国专利 :CN120972457A ,2025-11-18

[3]

一种丙烯酸酯类光刻胶单体的制备方法 [P].

傅志伟 ;

贺宝元 ;

潘新刚 ;

余文卿 ;

郭有壹 .

中国专利 :CN110590714B ,2019-12-20

[4]

一种基于MIL-101-丙烯酸酯类单体复合物用于负性光刻胶的制备方法 [P].

陈远富 ;

刘小菲 ;

巩明浩 ;

张万里 .

中国专利 :CN119414661B ,2025-10-14

[5]

丙烯酸酯类树脂薄膜及其制备方法 [P].

前川茂俊 ;

森山英树 ;

堀内光弘 ;

佃明光 .

中国专利 :CN1946794A ,2007-04-11

[6]

用于制备丙烯酸酯类制品的组合物、丙烯酸酯类制品及其制备方法 [P].

廖平湘 ;

林晓丹 .

中国专利 :CN113621329A ,2021-11-09

[7]

一种交联型丙烯酸酯类共聚物及其光刻胶 [P].

秦龙 ;

许箭 ;

汪武平 ;

耿文练 .

中国专利 :CN107151287B ,2017-09-12

[8]

一种有机硅改性丙烯酸酯类光刻胶及其制备方法 [P].

刘兴江 ;

魏柳荷 ;

吴林志 ;

张文英 .

中国专利 :CN111413848A ,2020-07-14

[9]

丙烯酸酯类抗冲改性剂的制备方法及由其制备的丙烯酸酯类树脂 [P].

陈继新 ;

王硕 ;

吕洁 ;

许济峰 ;

杨金胜 ;

刘哲 ;

刘聪 ;

董鑫 ;

王利鸿 .

中国专利 :CN110684155A ,2020-01-14

[10]

丙烯酸酯类预混料、丙烯酸酯类人造大理石及其制备方法 [P].

小柳精也 ;

佐伯慎二 ;

岸本祐一郎 .

中国专利 :CN1302281A ,2001-07-04

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