真空电弧离子镀膜源装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202022535142.1

申请日：

2020-11-05

公开(公告)号：

CN213507183U

公开(公告)日：

2021-06-22

发明(设计)人：

赵小燕

申请人：

申请人地址：

210014 江苏省南京市秦淮区永智路6号白下高新技术产业园区四号楼501室

IPC主分类号：

C23C1454

IPC分类号：

C23C1432

代理机构：

重庆百润洪知识产权代理有限公司 50219

代理人：

张建斌

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-22	授权	授权

共 50 条

[1]

真空电弧离子镀膜源装置 [P].

侯玉萍 .

中国专利 :CN209307476U ,2019-08-27

[2]

真空电弧离子镀膜方法 [P].

苗小锋 ;

汪云程 ;

袁雪花 ;

张志远 .

中国专利 :CN106591785B ,2017-04-26

[3]

电弧离子镀膜装置 [P].

刘威 ;

冯森 ;

蹤雪梅 .

中国专利 :CN212476868U ,2021-02-05

[4]

电弧离子镀膜装置 [P].

刘威 ;

冯森 ;

蹤雪梅 .

中国专利 :CN111893440A ,2020-11-06

[5]

电弧离子镀膜装置 [P].

冯森 ;

刘威 ;

蹤雪梅 .

中国专利 :CN111893440B ,2024-11-01

[6]

真空电弧离子镀膜炉转架装卸装置 [P].

白春阳 ;

王金伟 ;

孙英斌 .

中国专利 :CN204898055U ,2015-12-23

[7]

真空电弧离子镀膜阴极体两用的水冷装置 [P].

白春阳 ;

王俊波 ;

边雪 .

中国专利 :CN204727941U ,2015-10-28

[8]

无弧斑的真空电弧离子镀膜方法 [P].

王殿儒 ;

金佑民 .

中国专利 :CN101476107B ,2013-12-11

[9]

真空离子镀膜装置 [P].

付德君 ;

李娜 ;

曾晓梅 .

中国专利 :CN207452239U ,2018-06-05

[10]

栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置 [P].

张斌 ;

张俊彦 ;

高凯雄 ;

强力 ;

王健 .

中国专利 :CN205152318U ,2016-04-13

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