无弧斑的真空电弧离子镀膜方法

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专利类型
发明
申请号
CN200810000002.5
申请日
2008-01-02
公开(公告)号
CN101476107B
公开(公告)日
2013-12-11
发明(设计)人
王殿儒 金佑民
申请人
申请人地址
100086 北京市北三环西路48号3-3B
IPC主分类号
C23C1432
IPC分类号
C23C1416
代理机构
代理人
法律状态
专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)
国省代码
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共 50 条
[1]
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[3]
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[8]
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[9]
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