基板处理装置及基板处理方法

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专利类型
发明
申请号
CN201780005349.6
申请日
2017-01-23
公开(公告)号
CN108475630B
公开(公告)日
2018-08-31
发明(设计)人
桥诘彰夫
申请人
申请人地址
日本京都府
IPC主分类号
H01L21304
IPC分类号
H01L21027 H01L21306
代理机构
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
宋晓宝;向勇
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
林昌之 ;
岩田敬次 .
中国专利 :CN109564862A ,2019-04-02
[2]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
尾辻正幸 .
中国专利 :CN107437516A ,2017-12-05
[3]
基板处理装置、基板处理方法及基板处理程序 [P]. 
火口友美 ;
鳅场真树 ;
胡铃达 ;
岩川裕 ;
藤原直树 ;
吉原直彦 .
日本专利 :CN119542182A ,2025-02-28
[4]
基板处理方法及基板处理装置 [P]. 
后藤友宏 ;
真田雅和 ;
茂森和士 ;
玉田修 ;
安田周一 .
中国专利 :CN101136319A ,2008-03-05
[5]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
森口善弘 ;
福田浩 .
中国专利 :CN1841695A ,2006-10-04
[6]
基板处理方法及基板处理装置 [P]. 
塙洋祐 .
中国专利 :CN113366615A ,2021-09-07
[7]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
川岸棱也 ;
高村幸宏 ;
大宅宗明 .
日本专利 :CN120341134A ,2025-07-18
[8]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
高田畅行 ;
安田穗积 .
日本专利 :CN115087517B ,2024-04-05
[9]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
根本脩平 .
日本专利 :CN119790491A ,2025-04-08
[10]
基板处理方法及基板处理装置 [P]. 
塙洋祐 .
日本专利 :CN113366615B ,2025-05-02