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基板处理装置及基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201780005349.6
申请日
:
2017-01-23
公开(公告)号
:
CN108475630B
公开(公告)日
:
2018-08-31
发明(设计)人
:
桥诘彰夫
申请人
:
申请人地址
:
日本京都府
IPC主分类号
:
H01L21304
IPC分类号
:
H01L21027
H01L21306
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
宋晓宝;向勇
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-08-31
公开
公开
2018-09-25
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20170123
2022-09-13
授权
授权
共 50 条
[1]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
林昌之
论文数:
0
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0
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0
林昌之
;
岩田敬次
论文数:
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岩田敬次
.
中国专利
:CN109564862A
,2019-04-02
[2]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
尾辻正幸
论文数:
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0
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0
尾辻正幸
.
中国专利
:CN107437516A
,2017-12-05
[3]
基板处理装置、基板处理方法及基板处理程序
[P].
火口友美
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0
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0
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
火口友美
;
鳅场真树
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
鳅场真树
;
胡铃达
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
胡铃达
;
岩川裕
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0
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
岩川裕
;
藤原直树
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0
机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
藤原直树
;
吉原直彦
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0
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
吉原直彦
.
日本专利
:CN119542182A
,2025-02-28
[4]
基板处理方法及基板处理装置
[P].
后藤友宏
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后藤友宏
;
真田雅和
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真田雅和
;
茂森和士
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茂森和士
;
玉田修
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玉田修
;
安田周一
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0
安田周一
.
中国专利
:CN101136319A
,2008-03-05
[5]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
森口善弘
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森口善弘
;
福田浩
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福田浩
.
中国专利
:CN1841695A
,2006-10-04
[6]
基板处理方法及基板处理装置
[P].
塙洋祐
论文数:
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0
塙洋祐
.
中国专利
:CN113366615A
,2021-09-07
[7]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
川岸棱也
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
川岸棱也
;
高村幸宏
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
高村幸宏
;
大宅宗明
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
大宅宗明
.
日本专利
:CN120341134A
,2025-07-18
[8]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
高田畅行
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0
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
高田畅行
;
安田穗积
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
安田穗积
.
日本专利
:CN115087517B
,2024-04-05
[9]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
根本脩平
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
根本脩平
.
日本专利
:CN119790491A
,2025-04-08
[10]
基板处理方法及基板处理装置
[P].
塙洋祐
论文数:
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
塙洋祐
.
日本专利
:CN113366615B
,2025-05-02
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