基板处理装置及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710373089.X

申请日：

2017-05-24

公开(公告)号：

CN107437516A

公开(公告)日：

2017-12-05

发明(设计)人：

尾辻正幸

申请人：

申请人地址：

日本京都府京都市

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L21311

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

宋晓宝;向勇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20170524
2021-07-13	授权	授权
2017-12-05	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置、基板处理方法及基板处理程序 [P].

火口友美 ;

鳅场真树 ;

胡铃达 ;

岩川裕 ;

藤原直树 ;

吉原直彦 .

日本专利 :CN119542182A ,2025-02-28

[2]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

森口善弘 ;

福田浩 .

中国专利 :CN1841695A ,2006-10-04

[3]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

川岸棱也 ;

高村幸宏 ;

大宅宗明 .

日本专利 :CN120341134A ,2025-07-18

[4]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

根本脩平 .

日本专利 :CN119790491A ,2025-04-08

[5]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

林昌之 ;

岩田敬次 .

中国专利 :CN109564862A ,2019-04-02

[6]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

安陪裕滋 .

中国专利 :CN111715473B ,2020-09-29

[7]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

斋藤孝行 ;

铃木作 ;

山田薰 ;

伊藤贤也 ;

龟泽正之 ;

山口健二 .

中国专利 :CN1879199A ,2006-12-13

[8]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

黑川祯明 ;

滨田晃一 ;

小林信雄 ;

长岛裕次 .

中国专利 :CN102782807A ,2012-11-14

[9]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

犹原英司 ;

冲田有史 ;

角间央章 ;

増井达哉 .

日本专利 :CN119517801A ,2025-02-25

[10]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

奥谷学 ;

阿部博史 .

中国专利 :CN110098137A ,2019-08-06

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