透明导电膜的制造方法及透明导电膜、透明导电基板以及使用有透明导电基板的器件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980148079.X

申请日：

2009-12-01

公开(公告)号：

CN102232232B

公开(公告)日：

2011-11-02

发明(设计)人：

行延雅也大塚良广

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01B1300

IPC分类号：

H01B514 H01L3104 H05K900

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

王永红

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-11-02	公开	公开
2011-12-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101152732666 IPC(主分类):H01B 13/00 专利申请号:200980148079X 申请日:20091201
2020-11-13	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01B 13/00 申请日:20091201 授权公告日:20130911 终止日期:20191201
2013-09-11	授权	授权

共 50 条

[1]

透明导电膜的制造方法及透明导电膜、使用该透明导电膜的元件、透明导电基板以及使用该透明导电基板的器件 [P].

行延雅也 ;

村山勇树 ;

永野崇仁 ;

大塚良广 .

中国专利 :CN102598160A ,2012-07-18

[2]

透明导电膜及其制造方法、元件、透明导电基板及其器件 [P].

行延雅也 ;

永野崇仁 ;

大塚良广 .

中国专利 :CN102763174B ,2014-08-27

[3]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

中川原修 ;

瀨戸弘之 ;

岸本諭卓 .

中国专利 :CN101180687A ,2008-05-14

[4]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

深堀奏子 ;

岸本谕卓 .

中国专利 :CN101548343A ,2009-09-30

[5]

透明导电膜及使用该透明导电膜的导电性基板 [P].

国司洋介 ;

铃木秀树 ;

小松博登 ;

池野顺一 .

中国专利 :CN102388422A ,2012-03-21

[6]

透明导电膜、透明导电膜用靶及透明导电膜用靶的制造方法 [P].

朴壮愚 ;

金相熙 .

中国专利 :CN103038834A ,2013-04-10

[7]

透明导电膜、带透明导电膜的基板及光电转换元件 [P].

鲤田崇 ;

斋均 ;

松井卓矢 .

日本专利 :CN120752709A ,2025-10-03

[8]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

北野高广 .

中国专利 :CN101669177A ,2010-03-10

[9]

带透明导电膜的基板的制造方法、带透明导电膜的基板的制造装置及带透明导电膜的基板 [P].

大野幸亮 ;

高桥明久 ;

白井雅纪 ;

小林大士 .

中国专利 :CN109642307A ,2019-04-16

[10]

透明导电膜的制造方法、透明导电膜的制造装置、溅射靶及透明导电膜 [P].

汤川富之 ;

武井応树 ;

小林大士 ;

赤松泰彦 ;

清田淳也 ;

增泽健二 ;

石桥晓 .

中国专利 :CN104213085A ,2014-12-17

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